[發明專利]離子注入系統及利用該系統的離子注入方法

有效

• 申請號: 201110120191.1
• 申請日: 2011-05-06
• 公開（公告）號: CN102456530A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發明（設計）人: 金玄圭;金相洙
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 余朦;王艷春

1.一種離子注入系統，用于向基板注入離子，其特征在于，包括：

多個離子注入組件，設置成一列，向所述基板注入所述離子；以及

移送組件，提供讓所述基板在其內部移動的移動通道，使所述基板在所述移動通道內移動；

所述離子注入組件向所述基板的部分區域注入所述離子，

所述基板向所述移動通道內的第一方向移動，并被所述多個離子注入組件注入所述離子；所述基板向所述第一方向移動后，向與所述第一方向相反的第二方向移動，并被所述多個離子注入組件注入所述離子，

所述移送組件包括：

多個處理腔室，與所述離子注入組件分別連接，將釋放的所述離子注入于所述基板；

返送腔室，變更所述基板的移送方向；

支撐物，支撐所述基板；

第一移送引導裝置，提供移動路徑，使得所述支撐物在所述腔室內部以所述第一方向移動；以及

第二移送引導裝置，提供移動路徑，使得所述支撐物在所述腔室內部以所述第二方向移動。

2.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，

所述第一方向和所述第二方向不位于同一直線上，而相互平行。

3.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，

所述離子注入組件至所述第一方向之間的距離，不同于所述離子注入組件至所述第二方向之間的距離。

4.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，

注入于所述基板的離子總量為，所述基板向第一方向移動時被注入的所述離子的第一注入量以及向所述第二方向移動時被注入的所述離子的第二注入量之和。

5.根據權利要求4所述的離子注入系統，其特征在于，

針對所述基板所述第一注入量和所述第二注入量相同。

6.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，

所述返送腔室將移送至所述第一移送引導裝置的所述支撐物移動至所述第二移送引導裝置。

7.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，

所述第一移送引導裝置將所述支撐物從所述第一腔室移送至所述返送腔室；

所述第二移送引導裝置將所述支撐物從所述返送腔室移送至所述第一腔室。

8.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，所述移送組件還包括：

第一腔室，將所述基板向所述移送組件內載入以及向所述移送組件外部卸載。

9.根據權利要求8所述的離子注入系統，其特征在于，所述移送組件還包括：

第二腔室，設置于所述第一腔室和所述處理腔室之間，從所述第一腔室移送所述基板，在其內部維持真空。

10.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，還包括：

機械臂，用于向所述移送組件供給所述基板，或者從所述移送組件取出所述基板。

11.根據權利要求10所述的離子注入系統，其特征在于，

所述機械臂朝所述移送組件的、連接有所述離子注入組件的側面，將所述基板投入至所述移送組件，或者從所述移送組件取出所述基板。

12.根據權利要求10所述的離子注入系統，其特征在于，

所述機械臂朝所述移送組件的、連接有所述離子注入組件的側面的相對面，將所述基板投入至所述移送組件，或者從所述移送組件取出所述基板。

13.根據權利要求10所述的離子注入系統，其特征在于，

所述機械臂將所述基板傾斜地投入至所述移送組件，所述基板相對于地面呈銳角。

14.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，還包括：

法拉第部，設置于所述移送組件內，測量從所述離子注入組件釋放的離子量。

15.根據權利要求1所述的離子注入系統，其特征在于，

在所述處理腔室的一側面形成有狹縫，用于分別從所述離子注入組件引入離子。