[發(fā)明專利]一種光致抗蝕劑的剝離液組合物

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110109548.6
• 申請(qǐng)日: 2011-04-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102221791A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張軍;常積東;李承孝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安東旺精細(xì)化學(xué)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/42
• 分類號(hào): G03F7/42
• 代理公司: 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211
• 代理人: 徐平

1.一種光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：包含

(1)無(wú)機(jī)堿，含量為1wt％-25wt％；

(2)氨水或/和至少一種銨鹽，含量為0.1-30wt％；

(3)防腐蝕劑，含量為0.1-15wt％；

(4)余量為水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：所述的無(wú)機(jī)堿包括氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰中的一種或兩種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：所述的銨鹽包括硫酸銨、硫酸氫胺、亞硫酸銨、亞硫酸氫銨、硝酸銨、碳酸銨、碳酸氫銨、氯化銨、溴化銨、氟化銨、磷酸銨、氨基磺酸銨、甲酸銨、乙酸銨、草酸銨、檸檬酸銨、苯甲酸銨、二硫代氨基甲酸銨中的一種或兩種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：所述的防腐蝕劑包括芳香族羥基化合物或/和唑類化合物中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：所述芳香族羥基化合物選擇沒(méi)食子酸、單寧酸、植酸、鄰苯二酚、對(duì)苯二酚中的至少一種，唑類化合物選擇三氮唑、甲基三氮唑、苯并三氮唑、苯并四氮唑、氨基四氮唑中的至少一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：(1)無(wú)機(jī)堿，含量為5-20wt％；

(2)氨水或/和至少一種銨鹽，含量為1-25wt％；

(3)防腐蝕劑，含量為0.3-10wt；

(4)余量為水。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，其特征在于：

(1)無(wú)機(jī)堿，含量為8-15wt％；

(2)氨水或/和至少一種銨鹽，含量為5-20wt％；

(3)防腐蝕劑，含量為0.5-8wt％；

(4)余量為水。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，用于封裝基板的光致抗蝕劑膜的剝離。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑的剝離液組合物，用于PCB、FPC、TFT、LCD的光致抗蝕劑膜的剝離。