[發明專利]光刻設備和制造物品的方法有效
| 申請號: | 201110103590.7 | 申請日: | 2011-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN102236265A | 公開(公告)日: | 2011-11-09 |
| 發明(設計)人: | 森堅一郎 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 魏小薇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 設備 制造 物品 方法 | ||
1.一種光刻設備,該光刻設備通過照射系統經由原版以光照射涂覆在基板上的感光材料,以將該原版的圖案轉印到基板上的擊射區域上,該設備包括:
遮光板,該遮光板在其邊緣上包括與圓形邊界線重疊的弧形,該圓形邊界線限定基板上的要將該圖案轉印到其上的區域,并且,該圓形邊界線位于基板的外周的內側并且距該基板的外周預定距離,所述遮光板阻擋光以防止該光入射到基板上的位于圓形邊界線的外側的外周區域上;
第一驅動單元,圍繞與照射系統的光學軸平行的軸旋轉所述遮光板;以及
第二驅動單元,在垂直于照射系統的光學軸的平面內線性驅動所述遮光板。
2.根據權利要求1的設備,還包含控制器,該控制器控制所述第一驅動單元和所述第二驅動單元,使得當圖案要被轉印到其上的擊射區域與外周區域接觸時,所述遮光板被定位在這樣的位置處,即在該位置處,所述遮光板覆蓋與該擊射區域接觸的外周區域。
3.根據權利要求1的設備,其中,所述弧形包括第一弧形和第二弧形,所述第一弧形和第二弧形位于所述遮光板的邊緣上的相反位置處,并且,所述第一弧形和第二弧形在從所述遮光板的內側到其外側的方向上凹陷地彎曲。
4.根據權利要求1的設備,其中
所述遮光板包括開口,以及
所述弧形包括第一弧形和第二弧形,所述第一弧形和第二弧形位于該開口的邊緣上的相反位置處,并且,所述第一弧形和第二弧形在從該開口的內側到其外側的方向上凸起地彎曲。
5.根據權利要求1的設備,其中,所述遮光板位于照射系統內的與基板共軛的位置處。
6.根據權利要求5的設備,還包括
第二遮光板,該第二遮光板阻擋光以防止該光入射到位于直線狀邊的外側的區域上,該直線狀邊限定擊射區域的外邊緣,
其中,所述第二遮光板位于照射系統內的與基板共軛并且不同于所述遮光板所位于的位置的位置。
7.根據權利要求5的設備,還包括
第二遮光板,該第二遮光板阻擋光以防止該光入射到位于直線狀邊的外側的區域上,該直線狀邊限定擊射區域的外邊緣,
其中,所述第二遮光板位于與所述遮光板相鄰的位置。
8.根據權利要求5的設備,還包括
第二遮光板,該第二遮光板阻擋光以防止該光入射到位于直線狀邊的外側的區域上,該直線狀邊限定擊射區域的與第一方向平行的外邊緣,
其中,所述第二遮光板位于與所述遮光板相鄰的位置,以及
所述原版包括遮光部分,該遮光部分阻擋光以防止該光入射到位于直線狀邊的外側的區域上,該直線狀邊限定擊射區域的與垂直于第一方向的第二方向平行的外邊緣。
9.根據權利要求1的設備,其中,所述光刻設備包括曝光設備,該曝光設備通過投射光學系統將原版的圖案投射和轉印到擊射區域上。
10.根據權利要求1的設備,其中,所述光刻設備包括執行壓印處理的壓印設備,該壓印處理將模具的圖案壓在感光材料上,并且經由所述模具通過照射系統以光照射所述感光材料,從而固化所述感光材料。
11.一種光刻設備,該光刻設備通過照射系統經由原版以光照射涂覆在基板上的感光材料,以將該原版的圖案轉印到基板上的擊射區域上,該設備包括:
遮光板,該遮光板在其邊緣上包括與圓形邊界線重疊的多邊形的邊,該圓形邊界線限定基板上的要將該圖案轉印到其上的區域,并且,該圓形邊界線位于基板的外周的內側并且距該基板的外周預定距離,該遮光板阻擋光以防止該光入射到基板上的位于該圓形邊界線的外側的外周區域上;
第一驅動單元,圍繞與照射系統的光學軸平行的軸旋轉所述遮光板;以及
第二驅動單元,在垂直于照射系統的光學軸的平面內線性驅動所述遮光板。
12.一種制造物品的方法,該方法包括:
使用權利要求1到11中的任一項中定義的光刻設備,在基板上形成圖案;以及
在所述形成中對在其上形成圖案的基板進行加工。
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