[發明專利]一種MB8鎂合金表面薄層厚度均勻處理方法無效
| 申請號: | 201110101666.2 | 申請日: | 2011-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN102181910A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發明(設計)人: | 杜云慧;張鵬;劉漢武;盧小鵬 | 申請(專利權)人: | 北京交通大學 |
| 主分類號: | C25D11/30 | 分類號: | C25D11/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100044 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 mb8 鎂合金 表面 薄層 厚度 均勻 處理 方法 | ||
【權利要求書】:
1.一種MB8鎂合金表面薄層厚度均勻處理方法,采用交流等離子體微弧氧化處理方法對MB8鎂合金進行表面處理,其特征在于,在進行表面處理前1分30秒開始向處理液中噴入氧氣,并在氟化鉀濃度為1311~1313g/L、氫氧化鉀濃度為359~361g/L、硅酸鈉濃度為105~107g/L、工頻交流電壓為47~49V、每升處理液氧氣噴入量為0.006~0.009L/s條件下,對MB8鎂合金進行62~82秒的交流等離子體微弧氧化表面處理。
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