[發(fā)明專利]一種提高燒結(jié)體氧化鎂靶材體積密度的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110101506.8 | 申請(qǐng)日: | 2011-04-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102225862A | 公開(公告)日: | 2011-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林宇;王寧會(huì);穆卓藝;潘忠藝;張百平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 遼寧中大超導(dǎo)材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C04B35/04 | 分類號(hào): | C04B35/04;C04B35/622 |
| 代理公司: | 大連星海專利事務(wù)所 21208 | 代理人: | 修德金 |
| 地址: | 115000 遼寧省*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提高 燒結(jié) 氧化鎂 體積 密度 方法 | ||
1.一種提高燒結(jié)體氧化鎂靶材體積密度的方法,包括以下步驟:
步驟A,濕法混料階段:將含硅的氧化物、氫氧化物或有機(jī)物作為燒結(jié)劑與高純鎂質(zhì)原料均勻混合;?
步驟B,燒結(jié)階段:將步驟A得到的混料燒結(jié),燒結(jié)溫度1450~1750℃,恒溫時(shí)間2~15小時(shí)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高燒結(jié)體氧化鎂靶材體積密度的方法,其特征在于,所述燒結(jié)劑的含量占總量的0.005~50%,其中,所述燒結(jié)劑折算為SiO2后計(jì)算配比。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高燒結(jié)體氧化鎂靶材體積密度的方法,其特征在于,所述高純鎂質(zhì)原料為氧化鎂、堿式碳酸鎂、氫氧化鎂或氧化鎂、堿式碳酸鎂、氫氧化鎂兩種或兩種以上的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高燒結(jié)體氧化鎂靶材體積密度的方法,其特征在于,所述步驟B的燒結(jié)氛圍為氧化氛圍或大氣氛圍。
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