[發明專利]鍍膜件的制備方法及由該方法制得的鍍膜件

無效

• 申請號: 201110100665.6
• 申請日: 2011-04-21
• 公開（公告）號: CN102747333A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;林順茂
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供基材；

采用粉末冶金法，以金屬銅粉和鐵粉為原料制備銅鐵復合靶；

采用磁控濺射法，以上述步驟制備的銅鐵復合靶為靶材，在基材表面濺射形成銅鐵合金層。

2.如權利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述基材的材質為不銹鋼或銅合金。

3.如權利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述銅鐵復合靶中銅和鐵的質量比介于1:4和4:1之間。

4.如權利要求3所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述制備銅鐵復合靶的步驟的工藝參數為：金屬銅粉的純度大于99.9%，金屬銅粉的粒徑為10～50μm；金屬鐵粉的純度大于99.9%，金屬鐵粉的粒徑為10～50μm；金屬銅粉與金屬鐵粉的質量比在1:4至4:1之間，該金屬銅粉與金屬鐵粉的混合物被球磨120～200min，熱等靜壓制成一坯體，經1300～1500℃燒結2～2.5h，再自然冷卻。

5.如權利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述濺射形成銅鐵合金層的步驟的工藝參數為：銅鐵復合靶的功率為6～13kw，以氬氣為工作氣體，氬氣流量為100～300sccm，對基材施加-100～-200V的偏壓，濺射溫度為120～180℃，鍍膜時間為30～60min。

6.如權利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：該銅鐵合金層的厚度為120～200nm。

7.如權利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：該鍍膜件的制備方法還包括在濺鍍銅鐵合金層前對基材進行預處理的步驟。

8.如權利要求7所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述預處理的步驟包括除油、除蠟、酸洗、中和、去離子水清洗及烘干步驟。

9.一種由權利要求1-8中的任一項所述的方法制得的鍍膜件。