[發(fā)明專利]碳納米管漿料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110097647.7 | 申請日: | 2011-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN102184820A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔡琪;周段亮;柳鵬;范守善 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | H01J9/02 | 分類號: | H01J9/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區(qū)清*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 漿料 制備 方法 | ||
1.一種碳納米管漿料的制備方法,其包括以下步驟:
提供一碳納米管陣列,其生長于一基底;
采用激光掃描該碳納米管陣列使碳納米管陣列中碳納米管被截短并具有均勻的長度;
將激光截短后的碳納米管陣列從基底上剝離得到長度均勻的碳納米管;
將所述長度均勻的碳納米管、無機(jī)粘結(jié)劑以及有機(jī)載體混合形成碳納米管漿料。
2.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述采用激光掃描該碳納米管陣列時,激光沿平行于碳納米管陣列中碳納米管軸向的方向照射至碳納米管陣列。
3.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的功率密度大于等于12×1011瓦特/平方米。
4.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述長度均勻碳納米管的長度范圍為1微米至25微米。
5.如權(quán)利要求4所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述長度均勻的碳納米管的長度為5至10微米。
6.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述長度均勻碳納米管的長度差小于等于5微米。
7.如權(quán)利要求6所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述長度均勻碳納米管的長度差介于2微米至3微米。
8.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的功率大于等于3瓦。
9.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光為脈沖激光。
10.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的功率大于等于4.2瓦。
11.如權(quán)利要求10所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的掃描速度小于等于80毫米/秒。
12.如權(quán)利要求11所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的掃描速度小于等于80毫米/秒且大于等于20毫米/秒。
13.如權(quán)利要求11所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的掃描平移周期大于等于5微米。
14.如權(quán)利要求13所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的掃描平移周期大于等于5微米且小于等于20微米。
15.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光逐行掃描照射所述碳納米管陣列,所述激光沿多個掃描行掃描碳納米管陣列時,激光的平移周期小于或等于激光沿一單個掃描行掃描碳納米管陣列時所形成溝槽的底部的寬度。
16.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述激光的功率為4.2W,掃描速度為20毫米/秒,掃描次數(shù)為1次,激光平移周期為8微米。
17.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述將碳納米管、無機(jī)粘結(jié)劑以及有機(jī)載體混合形成碳納米管漿料的步驟具體包括以下步驟:將激光掃描后的碳納米管陣列超聲分散至有機(jī)溶劑中形成一第一混合液;將無機(jī)粘結(jié)劑和有機(jī)溶劑混合形成一第二混合液;將所述第一混合液、第二混合液以及有機(jī)載體混合形成一混合物;去除所述混合物中的有機(jī)溶劑。
18.如權(quán)利要求1所述的碳納米管漿料的制備方法,其特征在于,所述將碳納米管、無機(jī)粘結(jié)劑以及有機(jī)載體混合形成碳納米管漿料的步驟具體包括以下步驟:將所述有機(jī)溶劑、無機(jī)粘結(jié)劑、導(dǎo)電顆粒以及有機(jī)載體混合形成一混合物;去除該混合物中的有機(jī)溶劑。
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