[發(fā)明專利]晶體管數(shù)組基板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110094494.0 | 申請(qǐng)日: | 2011-04-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102184966A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃雅惠;陳冠妤;陳盈惠;陳德譽(yù) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福州華映視訊有限公司;中華映管股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/786 | 分類號(hào): | H01L29/786;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 350015 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶體管 數(shù)組 | ||
1.一種晶體管數(shù)組基板,其特征在于,包括:
一基板;
多條掃描線與多條數(shù)據(jù)線,皆配置在該基板上,并且彼此交錯(cuò);
多個(gè)畫素單元,各該畫素單元包括一晶體管與一畫素電極,各該晶體管包括:
一閘極,配置于該基板上,并電性連接其中一該掃描線;
一汲極,電性連接其中一該畫素電極;
一源極,電性連接其中一該數(shù)據(jù)線,其中該汲極與該源極之間存有一通道間隙;
一金屬氧化物半導(dǎo)體層,配置于該閘極與該汲極之間,以及該閘極與該源極之間,并具有一對(duì)側(cè)邊緣,其中該些側(cè)邊緣彼此相對(duì),并位于該通道間隙的二端處;
一信道保護(hù)層,覆蓋該通道間隙內(nèi)的該金屬氧化物半導(dǎo)體層,并凸出于該金屬氧化物半導(dǎo)體層的該些側(cè)邊緣;以及
多個(gè)第一保護(hù)墊,配置于該些掃描線與該些數(shù)據(jù)線之間,并分別位于該些掃描線與該些數(shù)據(jù)線的交錯(cuò)處,其中各該第一保護(hù)墊包括一第一墊層與一第二墊層,而該些第一墊層位于該些第二墊層與該些掃描線之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該金屬氧化物半導(dǎo)體層的材質(zhì)為銦鎵鋅氧化物半導(dǎo)體或銦錫鋅氧化物半導(dǎo)體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該些第一墊層的材質(zhì)與該些金屬氧化物半導(dǎo)體層的材質(zhì)相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該些第二墊層的材質(zhì)與該些信道保護(hù)層的材質(zhì)相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該信道保護(hù)層的材質(zhì)為硅化合物或硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:在各該晶體管中,該信道保護(hù)層局部覆蓋該金屬氧化物半導(dǎo)體層,而該汲極與該源極局部覆蓋該金屬氧化物半導(dǎo)體層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:更包括多條共享線與多個(gè)第二保護(hù)墊,該些共享線皆配置在該基板上,并位于該些畫素電極的下方,其中該些共享線與該些掃描線并列,并與該些數(shù)據(jù)線彼此交錯(cuò),該些第二保護(hù)墊配置于該些共享線與該些數(shù)據(jù)線之間,并分別位于該些共享線與該些數(shù)據(jù)線的交錯(cuò)處。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該些第二保護(hù)墊更配置于該些共享線與該些畫素電極之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:各該第二保護(hù)墊包括一第三墊層與一第四墊層,而該些第三墊層位于該些第四墊層與該些共享線之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該些第三墊層的材質(zhì)與該些金屬氧化物半導(dǎo)體層的材質(zhì)相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該些第四墊層的材質(zhì)與該些信道保護(hù)層的材質(zhì)相同。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:該些第四墊層完全覆蓋該些第三墊層與該些共享線。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:在各該晶體管中,該信道保護(hù)層完全覆蓋該金屬氧化物半導(dǎo)體層,而該汲極與該源極皆覆蓋該信道保護(hù)層。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:更包括一閘極保護(hù)層,該閘極保護(hù)層配置于該些閘極與該些金屬氧化物半導(dǎo)體之間,并全面性覆蓋該些閘極。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體管數(shù)組基板,其特征在于:更包括一絕緣層,而各該畫素單元包括一導(dǎo)電柱,該絕緣層位于該些晶體管與該些畫素電極之間,而該些導(dǎo)電柱配置于該絕緣層中,并分別連接于該些畫素電極與該些汲極之間。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





