[發(fā)明專利]一種基底制造裝置及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110092338.0
• 申請日: 2004-08-20
• 公開（公告）號: CN102223765A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 麥可·巴訥斯;約翰·后蘭;杉宏清;布瑞恩·Y·普;摩喜特·杰恩;蘇立范;麥可·D·阿馬寇斯特;韓森·E·奈爾;戴安娜·瑪莉黛歐并;阿修克·K·信哈;丹·麥登
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料有限公司
• 主分類號: H05K3/00
• 分類號: H05K3/00;H05K3/02
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

本發(fā)明是申請日為2004年8月20日，申請?zhí)枮?00410057589.5，發(fā)明名稱為“一種基底制造裝置及其制造方法”的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是有關(guān)于一種監(jiān)測和控制基底的制造方法。

背景技術(shù)

先進的電子電路技術(shù)所需要的基底圖案的尺寸愈來愈細、小，例如較窄的內(nèi)聯(lián)機和較高的高寬比的介層窗，典型的基底是一半導(dǎo)體或是介電層，其在進行制造之后可在基底上形成多個圖案，而圖案的材質(zhì)例如是介電材料、半導(dǎo)體材料或是導(dǎo)體材料。圖案的尺寸較小，可在較小的面積上容納較多的圖案并且可在較高的頻率下操作。例如，含金屬的內(nèi)聯(lián)機的尺寸通常約小于0.18nm，且有時候甚至小于0.15nm。然而，要制造如此小的圖案而其尺寸和形狀在整個基底上又具有一致性，特別是圖案尺寸愈來愈小的時候，其制造愈來愈困難。在這種制造中，基底表面的制造變量中無法預(yù)測的變化可能來自于基底表面的不同區(qū)域上的圖案具有不同的尺寸。由于圖案的電性或其它的特性隨著基底位置而改變，這將難以適當(dāng)?shù)卦O(shè)計電路或是顯示器。

制造微細圖案的問題是微細圖案的容忍度范圍遠小于普通的圖案，其制造相當(dāng)困難。基底上的圖案的尺寸或形狀的變異量，原來是普通較大尺寸的圖案可以接受的，然而，在制造微細圖案時卻無法再被接受。當(dāng)圖案的關(guān)鍵尺寸隨著所在的基底表面的位置而有所不同時，圖案的形狀的改變是一個特殊問題。關(guān)鍵尺寸指對于圖案的電性有重大影響的尺寸。例如，內(nèi)聯(lián)機的線寬即是一種關(guān)鍵尺寸，因為如果部分的內(nèi)聯(lián)機被過度蝕刻，線寬特別窄的部分會有較高的阻值。甚至，內(nèi)聯(lián)機圖案其在尺寸上或是側(cè)壁的傾斜角度上有微小的改變，亦可能造成電性超過可容忍的范圍。因此，相較于普通的電路，具有微細尺寸的圖案的電路將因為無法符合尺寸的可容忍范圍而報廢無法使用。

因此，目前需要可以在基底上形成微小尺寸的圖案，且圖案的形狀和尺寸一致的制造方法和制造裝置。而且，亦需要一種能確保所形成的圖案具有均勻的關(guān)鍵尺寸而與圖案所在的基底表面的位置無關(guān)的制造方法或裝置。另外，亦需要一種可以蝕刻超細圖案且制造產(chǎn)量和產(chǎn)率皆佳的制造方法和裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種裝置和方法，以克服當(dāng)前技術(shù)無法確保在基底上形成的微小圖案具有均勻的關(guān)鍵尺寸的缺陷。

本發(fā)明提出一種基底處理裝置，其包括一制造腔室，此制造腔室包括一個基底支座、一個氣體配管以及一個氣體增能器。其中基底支座是用來承載基底，而基底具有一個第一區(qū)域和一個第二區(qū)域。一個氣體配管是用來將一氣體導(dǎo)入該制造腔室中。氣體增能器是用來使該氣體增能，以在該基底上形成多個圖案。氣體排出口，是用來排出該氣體。此裝置亦具有一個制造監(jiān)測器，用以監(jiān)測該基底的該第一區(qū)域上所形成的具有間隔開且分離開的多個圖案的圖形的尺寸，并產(chǎn)生一個第一信號，并且監(jiān)測該基底的該第二區(qū)域上所形成的具有間隔開且分離開的多個圖案的圖形的尺寸，并產(chǎn)生一個第二信號。此裝置還包括一個腔室控制裝置中具有程序化編碼，所述具有程序化編碼的腔室控制裝置是依據(jù)該第一信號和該第二信號，以由該制程制造控制裝置的一內(nèi)存中所儲存的一查詢表的多個制造處方中選擇一制程制造處方，用以接收該第一信號與該第二信號，并操作該基底支座、該氣體配管、該氣體增能器或該氣體排出口，以設(shè)定多個制造參數(shù)，其中多個制造參數(shù)包括一個或多個氣體流率、氣體壓力、氣體增能電源的水平以及基底溫度，以對多個第一區(qū)域與第二區(qū)域的圖案進行制造，補償形成在多個第一和第二區(qū)域上的圖案其尺寸上的差異。

本發(fā)明亦提出一種基底的制造方法，此方法將一個基底置于一制造腔室的一制造區(qū)(process?zone)中，該基底具有一個第一區(qū)域和一個第二區(qū)域，并在制造區(qū)中通入一制造氣體，然后使制造氣體增能，以在基底上形成具有間隔開且分離開的多個圖案(feature)的圖形(pattern)，之后再排出制造氣體。接著，監(jiān)測基底的第一區(qū)域上所形成的具有間隔開且分離開的多個圖案的圖形的尺寸，并產(chǎn)生一個第一信號，并且監(jiān)測該基底的該第二區(qū)域上所形成的具有間隔開且分離開的多個圖案的圖形的尺寸，并產(chǎn)生一個第二信號。然后，評估第一信號和第二信號，并設(shè)定制造區(qū)的多個制造參數(shù)，以處理第一區(qū)域和第二區(qū)域的圖案，補償圖案的尺寸的差異性，其中制造參數(shù)包括一個或多個氣體流率、氣體壓力、氣體增能電源的水平以及基底溫度。