[發(fā)明專利]鍍膜件的制備方法及由該方法制得的鍍膜件

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110091357.1
• 申請日: 2011-04-13
• 公開（公告）號: CN102732881A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;戴龍文;林順茂
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C28/04
• 分類號: C23C28/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種鍍膜件的制備方法及由該方法制得的鍍膜件。

背景技術(shù)

為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等工藝制備裝飾涂層。相比這些傳統(tǒng)工藝，PVD鍍膜技術(shù)更加綠色環(huán)保，且采用PVD鍍膜技術(shù)可在產(chǎn)品外殼表面形成具有金屬質(zhì)感的裝飾色彩層。

然而現(xiàn)有技術(shù)中，利用PVD鍍膜技術(shù)于外殼表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛制備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黑色、藍色等色系。白色作為一種經(jīng)典的顏色，目前業(yè)界較難通過PVD鍍膜技術(shù)獲得，因而利用PVD鍍膜技術(shù)獲得穩(wěn)定的白色膜層一直是業(yè)界研究的焦點。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，有必要提供一種白色的PVD鍍膜件的制備方法。

另外，還有必要提供一種由上述方法所制得的鍍膜件。

一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供透明的玻璃基材；

采用濺射法在該玻璃基材的表面沉積金屬錫，濺射時玻璃基材溫度為230~300℃；

對玻璃基材表面的金屬錫進行熱氧化處理形成氧化錫；

繼續(xù)采用濺射法在氧化錫的表面沉積氧化鋁，所述氧化錫和氧化鋁形成的復(fù)合膜層形成一色彩層，該色彩層透過所述基材于CIE?Lab表色系統(tǒng)顯示的L*坐標介于80至89之間，a*坐標介于-0.5至0.5之間，b*坐標介于-0.5至0.5之間。

一種鍍膜件，其包括基材及形成于基材一表面的色彩層，該基材為透明的玻璃，該色彩層為氧化錫和氧化鋁組成的復(fù)合膜層，該色彩層透過所述基材于CIE?Lab表色系統(tǒng)顯示的L*坐標介于80至89之間，a*坐標介于-0.5至0.5之間，b*坐標介于-0.5至0.5之間。

本發(fā)明所述鍍膜件的制備方法在形成色彩層時，先在基材表面沉積錫，然后對沉積的錫進行熱氧化處理獲得成納米微球狀態(tài)的氧化錫，再濺射沉積氧化鋁，從而在透明的基材上制備獲得色彩層，該色彩層性能穩(wěn)定，透過透明的基材觀察所述色彩層呈現(xiàn)白色，使所述鍍膜件呈現(xiàn)白色外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，提高了產(chǎn)品的外觀競爭力；且所述色彩層的顏色透過透明的基材而顯示，使用時形成有色彩層的表面通常作為內(nèi)表面，可有效避免色彩層的磨損刮擦。所述色彩層的制備方法工藝簡單，易于操作，綠色環(huán)保。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一較佳實施例鍍膜件的剖視圖；

圖2為本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的俯視示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜件10基材11色彩層13真空鍍膜機20鍍膜室21錫靶23鋁靶24軌跡25真空泵30

如下具體實施方式將結(jié)合上述附圖進一步說明本發(fā)明。

具體實施方式

本發(fā)明一較佳實施方式的鍍膜件10(如圖1所示)的制備方法包括如下步驟：

提供基材11，該基材11為透明的玻璃。