[發(fā)明專利]鍍膜件的制備方法及由該方法制得的鍍膜件

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110091357.1
• 申請(qǐng)日: 2011-04-13
• 公開（公告）號(hào): CN102732881A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;戴龍文;林順茂
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C28/04
• 分類號(hào): C23C28/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供透明的玻璃基材；

采用濺射法在該玻璃基材的表面沉積金屬錫，濺射時(shí)玻璃基材溫度為230~300℃；

對(duì)玻璃基材表面的金屬錫進(jìn)行熱氧化處理形成氧化錫；

繼續(xù)采用濺射法在氧化錫的表面沉積氧化鋁，所述氧化錫和氧化鋁形成的復(fù)合膜層形成一色彩層，該色彩層透過所述玻璃基材于CIE?Lab表色系統(tǒng)顯示的L*坐標(biāo)介于80至89之間，a*坐標(biāo)介于-0.5至0.5之間，b*坐標(biāo)介于-0.5至0.5之間。

2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：該色彩層透過所述透明的玻璃基材觀察呈現(xiàn)白色。

3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述沉積金屬錫的步驟的具體工藝參數(shù)為：以氬氣為工作氣體，氬氣流量為100~500sccm，使用錫靶，錫靶的功率為5~12kW，施加于玻璃基材的偏壓為-30~-50V，濺射時(shí)間為5~20min。

4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述熱氧化處理的步驟的具體工藝參數(shù)為：氧氣的流量100~500sccm，玻璃基材的溫度為230~300℃，處理時(shí)間為10~40min。

5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述熱氧化處理形成的氧化錫為納米微球狀。

6.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述沉積氧化鋁的步驟的具體工藝參數(shù)為：以氬氣為工作氣體，氬氣流量為100~500sccm；以氧氣為反應(yīng)氣體，氧氣流量為50~100sccm；使用鋁靶，鋁靶的功率為5~12kW，施加于玻璃基材的偏壓為-50~-100V，濺射溫度為120~180℃，濺射時(shí)間為20~40min。

7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述色彩層的厚度為0.2~1.0μm。

8.一種鍍膜件，其包括基材及形成于基材一表面的色彩層，其特征在于：該基材為透明的玻璃，該色彩層為氧化錫和氧化鋁組成的復(fù)合膜層，該色彩層透過所述基材于CIE?Lab表色系統(tǒng)顯示的L*坐標(biāo)介于80至89之間，a*坐標(biāo)介于-0.5至0.5之間，b*坐標(biāo)介于-0.5至0.5之間。

9.如權(quán)利要求8所述的鍍膜件，其特征在于：透過所述基材觀察所述色彩層呈現(xiàn)白色。

10.如權(quán)利要求8所述的鍍膜件，其特征在于：所述色彩層的厚度為0.2~1.0μm。