[發(fā)明專利]手機(jī)、真空鍍膜表面處理天線及其制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110089464.0 | 申請日： | 2011-04-11 |
| 公開（公告）號： | CN102164194A | 公開（公告）日： | 2011-08-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王榮福 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市厚澤真空技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | H04M1/02 | 分類號： | H04M1/02;H01Q1/24;H01Q1/38;H01Q1/40 |
| 代理公司： | 深圳市博銳專利事務(wù)所 44275 | 代理人： | 張明 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 手機(jī) 真空鍍膜 表面 處理 天線 及其 制作方法 | ||
1.一種手機(jī)，其特征在于，包括形成在手機(jī)外殼上的真空鍍膜表面處理天線，所述真空鍍膜表面處理天線包括依次附著在手機(jī)外殼上的UV底層、金屬導(dǎo)電層、外觀處理層、性能測試中涂層和UV防護(hù)層，所述UV底層經(jīng)紫外光固化緊密貼合在所述外殼上；所述金屬導(dǎo)電層的圖形分布根據(jù)天線功能確定且是通過遮蓋治具經(jīng)真空濺鍍工藝形成，所述遮蓋治具的鏤空形狀與天線圖形相適配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手機(jī)，其特征在于：
所述手機(jī)外殼為ABS材質(zhì)、尼龍材質(zhì)或PC材質(zhì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的手機(jī)，其特征在于：
所述金屬導(dǎo)電層是通過磁控濺射設(shè)備在真空條件下濺射制成，其材質(zhì)為鋁、銅或者鎳銅合金，其厚度為5～20微米。
4.一種真空鍍膜表面處理天線制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
準(zhǔn)備天線基材；
在天線基材表面噴涂UV底層，并利用紫外光固化所述UV底層，使得UV底層緊密附著在天線基材上；
根據(jù)天線圖形線路的分布制作遮蓋治具；
運(yùn)用所述遮蓋治具遮蓋住天線基材上無需鍍上導(dǎo)電層的部位，而露出需要鍍上導(dǎo)電層的部位；
利用真空濺鍍工藝在天線基材上鍍上符合天線圖形線路的金屬導(dǎo)電層；
去掉遮蓋治具，依據(jù)外觀需求裝飾噴涂外觀處理層；
噴涂性能測試中涂層；
鐳射雕刻出導(dǎo)電區(qū)域和表面處理圖形標(biāo)志；
在天線基材表面上整體噴涂UV防護(hù)層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空鍍膜表面處理天線制作方法，其特征在于：
在所述噴涂UV底層的步驟中，UV底層的工藝參數(shù)包括：涂層膜厚為8～12um，流平時(shí)間為5-10min，烘烤溫度為55-70℃，烘烤時(shí)間為10-15min，UV光固化的峰值能量為800-1200mj，累計(jì)能量為900-1300mj；
在所述濺鍍金屬導(dǎo)電層的步驟中，金屬導(dǎo)電層的工藝參數(shù)包括：電壓一段為100-120V，電壓二段為220-250V，電壓三段為300-350V，電流一段為20-25A，電流二段為40-50A，電流三段為75-90A，真空值為4±2×10-2pa；
在所述噴涂UV防護(hù)層的步驟中，所述UV防護(hù)層的工藝參數(shù)包括：涂層膜厚為15-28um，流平時(shí)間為5-10min，烘烤溫度為55-70℃，烘烤時(shí)間為15-25min，UV光固化的峰值能量為1000-1500mj，累計(jì)能量為1000-1500mj。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空鍍膜表面處理天線制作方法，其特征在于：
所述天線基材為ABS材質(zhì)、尼龍材質(zhì)或PC材質(zhì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空鍍膜表面處理天線制作方法，其特征在于：
所述金屬導(dǎo)電層是通過磁控濺射設(shè)備在真空條件下濺射制成，其材質(zhì)為鋁、銅或者鎳銅合金，其厚度為5～20微米。
8.一種真空鍍膜表面處理天線，其特征在于，包括依次附著在天線基材上的UV底層、金屬導(dǎo)電層、外觀處理層、性能測試中涂層和UV防護(hù)層，所述UV底層經(jīng)紫外光固化緊密貼合在所述外天線基材上；所述金屬導(dǎo)電層的圖形分布根據(jù)天線功能確定且是通過遮蓋治具遮蓋后經(jīng)真空濺鍍工藝形成，所述遮蓋治具的鏤空形狀與天線圖形相適配。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空鍍膜表面處理天線，其特征在于：
所述天線基材為ABS材質(zhì)、尼龍材質(zhì)或PC材質(zhì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空鍍膜表面處理天線，其特征在于：
所述金屬導(dǎo)電層是通過磁控濺射設(shè)備在真空條件下濺射制成，其材質(zhì)為鋁、銅或者鎳銅合金，其厚度為5～20微米。
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