[發(fā)明專利]一種用于校準(zhǔn)工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)放大倍率的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110062786.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-03-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102207470A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-10-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜志華;盛克平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N23/04 | 分類號(hào): | G01N23/04 |
| 代理公司: | 上海世貿(mào)專利代理有限責(zé)任公司 31128 | 代理人: | 李浩東 |
| 地址: | 201203 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 校準(zhǔn) 工業(yè)計(jì)算機(jī) 斷層 攝影 系統(tǒng) 放大 倍率 標(biāo)準(zhǔn) 物質(zhì) | ||
1.一種用于校準(zhǔn)工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)放大倍率的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),其特征是:它的基板上開(kāi)有一個(gè)沉孔和一個(gè)導(dǎo)向孔,沉孔內(nèi)設(shè)置帶有通孔的簿片,簿片的厚度為0.1mm~0.3mm,簿片的材料為金屬鉑合金,通孔的孔徑為0.2mm~0.5mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于校準(zhǔn)工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)放大倍率的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),其特征是:沉孔的孔徑為3mm~4mm、導(dǎo)向孔的孔徑為0.5~1.0mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于校準(zhǔn)工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)放大倍率的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),金屬鉑合金中鉑的重量百分含量為90%~100%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3種任一項(xiàng)所述的一種用于校準(zhǔn)工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)放大倍率的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),其特征是:基板的邊長(zhǎng)為15mm~50mm,厚度為2mm~5mm。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光
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