[發明專利]一種精密的振鏡校正系統及校正方法無效
| 申請號: | 201110061492.1 | 申請日: | 2011-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN102152007A | 公開(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發明(設計)人: | 邱勇 | 申請(專利權)人: | 北京金橙子科技有限公司 |
| 主分類號: | B23K26/42 | 分類號: | B23K26/42 |
| 代理公司: | 北京方韜法業專利代理事務所 11303 | 代理人: | 吳景曾 |
| 地址: | 100000 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 精密 校正 系統 方法 | ||
技術領域
本發明屬于激光加工技術領域,具體涉及一種精密的振鏡校正系統及校正方法。
背景技術
在激光加工領域中大量使用振鏡進行掃描加工,由于振鏡安裝及其他各種原因會導致掃描區域中的加工圖像有各種變形,而傳統的用人工測量的方法進行校正,很難達到0.1毫米以下的定位精度.
公開日為2009年8月26日,申請號為200910105786.2的中國發明專利申請公開了一種振鏡校正系統及校正方法,該方法用CCD圖像采集裝置對矩陣標靶進行定位,用校正處理模塊輸出振鏡用的補償文件.
該方法較之傳統的人工進行的校正方法有較高的精度,但是仍有不足.其缺點是:該方法直接用CCD圖像采集裝置采集振鏡校正標靶中的所有標記點,由于CCD圖像采集裝置的鏡頭畸變導致每個標記點的位置偏差計算誤差比較大,進而對振鏡校正造成影響.
發明內容
為了克服現有的振鏡校正系統存在每個標記點的位置偏差的計算誤差較大,對振鏡校正造成不利影響的不足,本發明的目的在于:提供一種精密的振鏡校正系統及校正方法,該校正系統及校正方法可以對振鏡進行高精度的校正,而且結構簡單,操作簡便快捷。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案如下:
一種精密的振鏡校正系統,它包括振鏡校正標靶,所述的精密的振鏡校正系統還包括:
一個二維運動平臺,該二維運動平臺設在振鏡校正標靶的底部;
對振鏡校正標靶上每個標記點進行圖像采集的CCD圖像采集裝置,該CCD圖像采集裝置安裝在二維運動平臺的上方;
用于控制二維運動平臺的運動,把振鏡校正標靶上的每個標記點運動到理論位置,對采集的圖像計算出每個標記點的位置偏差,并輸出振鏡校正文件給振鏡控制系統,對振鏡進行校正的校正處理模塊。
所述的精密的振鏡校正系統的測量精度為0.02-0.1毫米的定位精度。
所述的振鏡校正系統安裝在固定機座上;所述的二維運動平臺包括Y直線電機、X直線電機及工作平臺;所述的Y直線電機設置在平面座標系中的Y方向,X直線電機設在X方向并設置在Y直線電機的上方,工作平臺設在Y直線電機的上方。
一種應用上述精密的振鏡校正系統對振鏡進行校正的方法,其校正方法包括以下的步驟:
(1)先把要校正的振鏡在加工振鏡校正標靶上標記出所有的標記點;
(2)把振鏡校正標靶安裝固定在二維運動平臺的工作平臺上;
(3)通過校正處理模塊控制移動Y直線電機、X直線電機,使安裝在工作平臺上的振鏡校正標靶移動到理論標記點位置;
(4)由CCD圖像采集裝置采集當前標記點圖像;
(5)由校正處理模塊對采集的圖像進行計算,得出實際標記點與理論標記點的位置誤差;
(6)如果還有標記點沒有采集處理完畢,則返回步驟(3),重新執行下一個標記點的采集和處理;
(7)全部標記點處理完畢后,由校正處理模塊輸出振鏡補償文件給振鏡控制系統,對振鏡進行校正。
由于采用上述技術方案,使本發明與現有的直接用CCD圖像采集裝置采集振鏡標靶中的所有標記點的校正系統相比,具有如下有益效果:
1、對振鏡進行校正的精度高
由于現有技術是直接使用振鏡來直接進行校正,而圖像采集裝置的鏡頭畸變會導致每個標記點的位置偏差計算誤差比較大,使振鏡的定位精度很難達到0.05毫米;本發明通過控制二維運動平臺的運動,把振鏡校正標靶上的每個標記點運動到理論位置,對采集的圖像計算出每個標記點的位置偏差,并輸出振鏡校正文件給振鏡控制系統,對振鏡進行校正,因而校正的精度要高。且本發明采用精度為0.005毫米的直線電機作為校正測量工件,來保證測量精度。
2、機械結構簡單,機構穩定,溫飄小
由于振鏡的定位精度很容易受環境溫度的影響而變差,本發明采用定位精度受環境溫度影響小的直線電機來測量,使精度能有保證。
3、軟件模塊流程清楚簡單,容易實現,易于操作。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。
圖1是本發明精密振鏡校正系統的模塊結構示意圖。
圖2是圖1中校正處理模塊的模塊結構圖。
圖3是本發明精密振鏡校正系統的裝配結構示意圖。
圖4是圖3中振鏡校正標靶上的標記點示意圖。
圖5是本發明精密振鏡校正系統的校正方法流程圖。
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