[發(fā)明專利]膜厚量測(cè)裝置及其校正方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110053410.9
• 申請(qǐng)日: 2011-03-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102141698A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柯智勝;賀成明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13
• 分類號(hào): G02F1/13;G01B21/08
• 代理公司: 廣東國(guó)暉律師事務(wù)所 44266
• 代理人: 歐陽(yáng)啟明

1.一種膜厚量測(cè)裝置，其特征在于，包括：

至少兩個(gè)固定座，分別位于不同的校正位置，用于承載不同的校正片；

一承載機(jī)臺(tái)，位于所述固定座的一側(cè)，用于承載一待量測(cè)的基材，并且儲(chǔ)存當(dāng)前承載的基材的標(biāo)識(shí)；以及

一量測(cè)頭，位于所述固定座與所述承載機(jī)臺(tái)上方，并從承載機(jī)臺(tái)接收所述基材的標(biāo)識(shí)，并從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取該標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)，所述對(duì)應(yīng)關(guān)系為標(biāo)識(shí)與校正位置的參數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系，并移動(dòng)到獲取的參數(shù)所對(duì)應(yīng)的校正位置上方，量測(cè)位于該校正位置的固定座上的校正片的膜厚以實(shí)現(xiàn)校正。

2.如權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)裝置，其特征在于：所述量測(cè)頭在校正后移動(dòng)到所述承載機(jī)臺(tái)的上方，量測(cè)當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的膜厚。

3.如權(quán)利要求2所述的膜厚量測(cè)裝置，其特征在于：所述量測(cè)頭在從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)之前，進(jìn)一步儲(chǔ)存當(dāng)前承載基材的標(biāo)識(shí)，并且判斷當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)與前一次承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)是否相同，若不相同，則執(zhí)行所述從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)的步驟。

4.如權(quán)利要求3所述的膜厚量測(cè)裝置，其特征在于：所述量測(cè)頭在判定當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)與前一次承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)相同后，移動(dòng)到所述承載機(jī)臺(tái)的上方，量測(cè)當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的膜厚。

5.如權(quán)利要求4所述的膜厚量測(cè)裝置，其特征在于：所述量測(cè)頭在判定當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)與前一次承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)相同后，進(jìn)一步判斷自前一次校正開(kāi)始是否達(dá)到預(yù)定時(shí)間，若未達(dá)到，則量測(cè)頭移動(dòng)到所述承載機(jī)臺(tái)的上方，量測(cè)當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的膜厚。

6.一種膜厚量測(cè)裝置的校正方法，其特征在于：所述膜厚量測(cè)裝置包含至少兩個(gè)固定座、一承載機(jī)臺(tái)以及一量測(cè)頭，所述固定座分別位于不同的校正位置，用于承載不同的校正片；所述承載機(jī)臺(tái)位于所述固定座的一側(cè)，用于承載一待量測(cè)的基材，并且儲(chǔ)存當(dāng)前承載的基材的標(biāo)識(shí)；所述量測(cè)頭位于所述固定座與所述承載機(jī)臺(tái)上方，所述校正方法由所述量測(cè)頭執(zhí)行，包含下列步驟：

從承載機(jī)臺(tái)接收當(dāng)前承載基材的標(biāo)識(shí)；

從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取該標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)，所述對(duì)應(yīng)關(guān)系為標(biāo)識(shí)與校正位置的參數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系；

移動(dòng)到獲取的參數(shù)所對(duì)應(yīng)的校正位置上方；以及

量測(cè)位于所述校正位置的固定座上的校正片的膜厚以實(shí)現(xiàn)校正。

7.如權(quán)利要求6所述的膜厚量測(cè)裝置的校正方法，其特征在于：在所述從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)之前，進(jìn)一步包含下列步驟：

儲(chǔ)存當(dāng)前承載基材的標(biāo)識(shí)；

判斷當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)與前一次承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)是否相同，若不相同，則執(zhí)行所述從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)的步驟。

8.如權(quán)利要求7所述的膜厚量測(cè)裝置的校正方法，其特征在于：所述量測(cè)頭在判定當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)與前一次承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)相同后，移動(dòng)到所述承載機(jī)臺(tái)的上方，量測(cè)當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的膜厚。

9.如權(quán)利要求7所述的膜厚量測(cè)裝置的校正方法，其特征在于：所述量測(cè)頭在判定當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)與前一次承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的標(biāo)識(shí)相同后，進(jìn)一步判斷自前一次校正開(kāi)始是否達(dá)到預(yù)定時(shí)間，若未達(dá)到，則量測(cè)頭移動(dòng)到所述承載機(jī)臺(tái)的上方，量測(cè)當(dāng)前承載機(jī)臺(tái)所承載的基材的膜厚。

10.如權(quán)利要求9所述的膜厚量測(cè)裝置的校正方法，其特征在于：所述量測(cè)頭在判定自前一次校正開(kāi)始達(dá)到預(yù)定時(shí)間時(shí)，執(zhí)行所述從保存的對(duì)應(yīng)關(guān)系中獲取標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的校正位置的參數(shù)的步驟。