[發明專利]鍍膜裝置

無效

• 申請號: 201110051076.3
• 申請日: 2011-03-03
• 公開（公告）號: CN102653854A
• 公開（公告）日: 2012-09-05
• 發明（設計）人: 吳佳穎;廖名揚
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜裝置。

背景技術

現有的鍍膜設備為了鍍膜均勻，通常將待鍍工件懸掛在一旋轉掛具上，該旋轉掛具固定在一轉盤上，并通過傳動機構與轉盤連接。在鍍膜機鍍膜時，該旋轉掛具與轉盤一同轉動，同時該旋轉掛具繞其自身中心軸自轉，以提高鍍膜的均勻性。

然而，由于工件在旋轉掛具的軸向方向上具有一定高度，所以工件的上下側的膜層厚度仍然有一定差異，從而產生工件膜層厚度不均勻的問題。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種用于提高膜層均勻性的鍍膜裝置。

一種鍍膜裝置，其包括一個腔體、一個轉盤、至少一個工件掛具及至少一個靶體，所述轉盤、工件掛具及所述靶體設于腔體內，所述工件掛具包括一個定位軸、兩個偏心輪、一個保持架、兩個往復軸及一個承載板，所述定位軸及保持架設置于所述轉盤上，且彼此能夠相對轉動，所述兩個偏心輪的軸心沿所述定位軸的軸向固定于所述定位軸上，且偏心方向相反，所述各偏心輪的邊緣設有一環形滑槽，所述保持架收容所述偏心輪及所述定位軸，所述定位軸固定連接于所述轉盤上，所述保持架隨所述轉盤一起轉動且能夠沿保持架自身中心軸轉動，所述兩個往復軸分別對應所述兩個偏心輪滑動設置于所述保持架上，所述各往復軸一端可滑動地卡合于所述偏心輪的環形滑槽內，另一端轉動連接于所述承載板一端部，當所述保持架相對所述定位軸轉動時，所述兩個偏心輪分別驅動所述兩個往復軸沿所述定位軸的徑向作往復運動，且所述兩個往復軸的運動方向相反。

本發明提供的鍍膜裝置通過往復軸帶動所述承載板的兩端部交替前后運動，將待鍍工件的上部與下部交替靠近靶體，從而提高待鍍工件的上部與下部的鍍膜均勻性。

附圖說明

圖1為本發明的鍍膜裝置的結構示意圖。

圖2為圖1所示的鍍膜裝置的示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜裝置????100

腔體????????10

轉盤????????20

靶體????????30

工件掛具????40

定位軸??????410

偏心輪??????420

第一偏心輪??421

第二偏心輪??422

環形滑槽????423

保持架??????430

第一環形架??431

第二環形架??432

連接件??????433

軸孔????????434

往復軸??????440

滑動部??????441

樞接部??????442

軸體????????443

承載板??????450

承載板端部??????450a

底面????????????451

連接部??????????452

第一齒輪????????50

固定軸??????????51

第二齒輪????????460

具體實施方式

下面將結合附圖，對本發明作進一步的詳細說明。

請參閱圖1及圖2，本發明提供的鍍膜裝置100。該鍍膜裝置100包括一個腔體10、一個轉盤20、多個靶體30及多個工件掛具40。

該腔體10用以提供一真空鍍膜環境。該腔體10與氣體入口與氣體出口(圖中均未示出)相連通。該氣體入口用于向腔體10內導入放電氣體，例如氬氣、氮氣等。該氣體出口用于與真空泵(圖未示)相連以使腔體10獲得初始的真空度以及在濺射過程中保持一定的真空度。該腔體10還可設置于箱體(圖未示)內，以增加氣密性。

所述轉盤20位于所述腔體10的底部。該轉盤20可以為圓盤形、圓環形，也可以為正多邊形并可圍繞其幾何中心進行旋轉。本實施方式中，轉盤20為圓環形的轉盤。

所述靶體30固定于所述腔體10內，其在鍍膜過程中通常充當陰極，用于提供形成薄膜的材料。每一靶體30為固定于腔體10中的單個片狀靶體，該多個靶體30設置于工件掛具40周圍，包圍所述工件掛具40。

該工件掛具40包括定位軸410、多對偏心輪420、保持架430、多對往復軸440及承載板450。

本實施方式中，所述定位軸410固定連接于所述轉盤20上，所述定位軸410與所述轉盤20的轉動軸平行。