[發明專利]太陽能電池的制造方法有效
| 申請號: | 201110050999.7 | 申請日: | 2011-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN102651425A | 公開(公告)日: | 2012-08-29 |
| 發明(設計)人: | 邱彥凱;郭明錦;蔡錦堂;陳添賜;黃桂武 | 申請(專利權)人: | 昱晶能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/265 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 中國臺灣苗栗縣竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 制造 方法 | ||
1.一種太陽能電池的制造方法,其特征在于,包含:
對一基板的一第一表面進行離子布植,以形成一第一摻雜層;
對該基板的一第二表面進行離子布植,以形成一第二摻雜層;
對該基板、該第一摻雜層與該第二摻雜層所形成的結構執行一退火程序,并通過該退火程序形成一第一鈍化層于該第一摻雜層上與形成一第二鈍化層于該第二摻雜層上;
形成一第三鈍化層于經該退火程序后所形成的該第一鈍化層上;
形成一第四鈍化層于經該退火程序后所形成的該第二鈍化層上;以及
分別形成導電電極于該第三鈍化層與該第四鈍化層上。
2.根據權利要求1所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,還包含于進行離子布植之前,利用蝕刻方式將該基板的該第一表面與該第二表面作粗糙化處理。
3.根據權利要求1所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,該基板為一p型基板,且該第一表面是透過進行離子布植植入n型摻質,該第二表面是透過進行離子布植植入p+型摻質。
4.根據權利要求1所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,該基板為一n型基板,且該第一表面是透過進行離子布植植入p型摻質,該第二表面是透過進行離子布植植入n+型摻質。
5.根據權利要求1所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,該第三鈍化層與該第四鈍化層是透過一化學氣相沉積方式形成。
6.一種太陽能電池的制造方法,其特征在于,包含:
對一基板的一第一表面進行離子布植,以形成一第一摻雜層;
對該基板的一第二表面進行離子布植,以形成一第二摻雜層;
對該基板、該第一摻雜層與該第二摻雜層所形成的結構執行一退火程序,并通過該退火程序形成一第一鈍化層于該第一摻雜層上與形成一第二鈍化層于該第二摻雜層上;
形成一第三鈍化層于經該退火程序后所形成的該第一鈍化層上;以及
分別形成導電電極于該第三鈍化層與經該退火程序后所形成的該第二鈍化層上。
7.根據權利要求6所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,還包含于進行離子布植之前,利用蝕刻方式將該基板的該第一表面作粗糙化處理。
8.根據權利要求6所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,該基板為一p型基板,且該第一表面是透過進行離子布植植入n型摻質,該第二表面是透過進行離子布植植入p+型摻質。
9.根據權利要求6所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,該基板為一n型基板,且該第一表面是透過進行離子布植植入p型摻質,該第二表面是透過進行離子布植植入p+型摻質。
10.根據權利要求6所述的太陽能電池的制造方法,其特征在于,該第三鈍化層是透過一化學氣相沉積方式形成。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昱晶能源科技股份有限公司,未經昱晶能源科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110050999.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





