[發明專利]真空處理設備和真空處理方法

無效

• 申請號: 201110050608.1
• 申請日: 2011-03-03
• 公開（公告）號: CN102191480A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 佐長谷肇;渡邊直樹;徐舸
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/54
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張濤

技術領域

本發明涉及一種適于真空處理大量襯底的真空處理設備和真空處理方法。

背景技術

傳統上采用一種其中一個裝載鎖定室LL連接到一個處理室PC的沉積設備在諸如襯底的靶材料上沉積大約一至三層(例如，參見日本專利特開No.9-27297)。

在這種包括僅一個處理室PC和一個裝載鎖定室LL的沉積設備中，在裝載鎖定室LL中更換襯底的同時不能在處理室PC中進行沉積，所以存在一極限，超出該極限就無法進一步提高實質的生產能力利用率，并且難以提高沉積處理的生產率(吞吐量)。

而且，在包括僅一個處理室PC和一個裝載鎖定室LL的沉積設備中，經常使用在將襯底保持在托架上的同時轉移真空容器的裝置。在這種裝置中，經常在從真空容器去除托架之后附裝/拆卸襯底，所以需要大量的處理步驟來附裝/拆卸襯底，從而阻礙生產率提高。

在這種情況下，為了縮短裝載鎖定室LL中的操作時間，采用了一種分別在處理室PC的上游側和下游側上布置裝載鎖定室LL，并且沿著一個方向傳遞襯底的方法(例如，參見日本專利特開No.7-243037和No.11-22915)。

例如，日本專利特開No.7-243037中公開的技術使用一種真空處理設備，在所述真空處理設備中多個處理室PC布置在裝載室和卸載室之間。該真空處理設備可以在將襯底保持在托架上的同時轉移所述襯底，并且因此可以在襯底(靶材料)上連續地形成多層膜。

然而，日本專利特開No.7-243037中說明的技術要求復雜的機構，以用于在真空容器內轉移保持襯底的托架(或保持器)。這使得難以減少沉積設備的成本。而且，如果僅少量的層堆疊在襯底上，則裝載室LC和卸載室UL中的操作時間變得相對較長，并且必須準備相當多的托架以提高處理室PC的運行率。這也使得難以減少沉積設備的成本。

發明內容

本發明是考慮到上述問題而作出的，并且實現了一種可以提高沉積處理的生產率且有助于減少成本的真空處理設備和真空處理方法。

為了解決上述問題，本發明提供一種真空處理設備，所述真空處理設備包括：不少于一個的處理單元；裝載鎖定室，所述裝載鎖定室比處理單元多一個；托架，所述托架比處理單元多不少于一個；和轉移裝置，所述轉移裝置在彼此相鄰的處理單元和裝載鎖定室之間轉移托架，其中，處理單元和裝載鎖定室交替地串聯連接，所述裝載鎖定室至少包括在一側與所述處理單元相鄰的第一裝載鎖定室和在另一側與所述處理單元相鄰的第二裝載鎖定室，所述托架至少包括在所述第一裝載鎖定室與所述處理單元之間往復運動的第一托架以及在所述第二裝載鎖定室與所述處理單元之間往復運動的第二托架，并且所述轉移裝置沿著相同的方向同步地轉移所述第一托架和所述第二托架。

本發明還提供一種使用如上限定的真空處理設備的真空處理方法，所述方法包括：將襯底附裝到定位在所述裝載鎖定室中的托架的附裝步驟；將在所述附裝步驟中安裝了襯底的托架轉移到與所述裝載鎖定室相鄰的處理單元的轉移步驟；在所述轉移步驟中轉移到所述處理單元中的托架上所安裝的襯底上執行真空處理的真空處理步驟；在所述真空處理步驟之后將安裝有所述襯底的托架轉移到所述裝載鎖定室的第二轉移步驟；將另一襯底附裝到位于另一裝載鎖定室中的另一托架的第二附裝步驟，所述另一裝載鎖定室在另一側與所述處理單元相鄰；和將在所述第二附裝步驟中安裝有所述另一襯底的所述另一托架轉移到所述處理單元的第三轉移步驟，其中，在所述真空處理步驟期間執行所述第二附裝步驟。

本發明還提供一種使用如上限定的真空處理設備的真空處理方法，所述方法包括：將襯底附裝到定位在所述裝載鎖定室中的托架的附裝步驟；將在所述附裝步驟中安裝了襯底的托架轉移到與所述裝載鎖定室相鄰的第一處理室的轉移步驟；在所述轉移步驟中轉移到所述第一處理室中的托架上所安裝的襯底上執行真空處理的真空處理步驟；將安裝有所述襯底的托架轉移到與所述裝載鎖定室相鄰的第二處理室的第二轉移步驟，所述襯底已經在所述真空處理步驟中經受了真空處理；在所述第二轉移步驟中轉移到所述第二處理室中的托架上所安裝的襯底上執行真空處理的第二真空處理步驟；在所述第二真空處理步驟之后將安裝有所述襯底的托架轉移到所述第一處理室的第三轉移步驟；將另一襯底附裝到位于另一裝載鎖定室中的另一托架的第二附裝步驟，所述另一裝載鎖定室在另一側與所述第二處理室相鄰；和將在所述第二附裝步驟中安裝有所述另一襯底的所述另一托架轉移到所述第二處理室的第四轉移步驟，其中，在所述第二真空處理步驟期間執行所述第二附裝步驟。