[發明專利]檢測光學微影光罩的方法及系統與裝置

有效

• 申請號: 201110044064.8
• 申請日: 2011-02-22
• 公開（公告）號: CN102385649A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 王淼鑫;賴建宏;涂志強;林佳仕;張宗裕
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G03F1/84;G06T7/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 陳紅

1.一種檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，包含：

接收一第一設計數據庫；

通過一偏向因子來調整該第一設計數據庫的一圖形，以產生一第一被偏置的數據庫；

對該第一被偏置的數據庫進行影像顯示，以產生一第一被顯示的數據庫影像；

接收一第一光罩影像；

比較該第一被顯示的數據庫影像與該第一光罩影像，其中該比較步驟的一結果指出該第一被顯示的數據庫影像與該第一光罩影像間的一相配程度；以及

基于該比較步驟來決定該偏向因子的一新數值。

2.根據權利要求1所述的檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，該接收該第一光罩影像的步驟包含：

使用該第一設計數據庫來產生一第一光罩；以及

對該第一光罩造影，以產生該第一光罩影像。

3.根據權利要求1所述的檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，該偏向因子是有關于一性質，該性質是選自由數個項目所組成的一群組，該些項目為：

使用于光罩創作的一材料；

使用于光罩造影的一模式；以及

使用于光罩造影的一檢測平面。

4.根據權利要求1所述的檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，還包含：

基于該偏向因子來決定一最佳化的偏向因子；

通過該最佳化的偏向因子來調整該第一設計數據庫的一圖形，以產生一第二被偏置的數據庫；

對該第二被偏置的數據庫進行影像顯示，以產生一第二被顯示的數據庫影像；

比較該第二被顯示的數據庫影像與該第一光罩影像；以及

修正被該比較該第二被顯示的數據庫影像與該第一光罩影像的步驟所辨識出的缺陷。

5.根據權利要求1所述的檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，還包含：

基于該偏向因子來決定一最佳化的偏向因子；

接收一第二設計數據庫；

通過該最佳化的偏向因子來調整該第二設計數據庫的一圖形，以產生一第二被偏置的數據庫；

對該第二被偏置的數據庫進行影像顯示，以產生一第二被顯示的數據庫影像；

接收一第二光罩影像，包含：

使用該第二設計數據庫來產生一第二光罩；以及

對該第二光罩造影，以產生該第二光罩影像；

比較該第二被顯示的數據庫影像與該第二光罩影像；以及

修正被該比較該第二被顯示的數據庫影像與該第二光罩影像的步驟所辨識出的缺陷。

6.根據權利要求1所述的檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，該第一光罩影像是有關于一第一光罩材料，該檢測光學微影光罩的方法還包含：

接收與一第二光罩材料有關的一第二光罩影像，包含：

使用該第一設計數據庫來產生具有該第二光罩材料的一第二光罩；以及

對該第二光罩造影，以產生該第二光罩影像；

通過一第二偏向因子來調整該第一設計數據庫的一圖形，以產生一第二被偏置的數據庫；

對該第一被偏置的數據庫進行影像顯示，以產生一第二被顯示的數據庫影像；

比較該第二被顯示的數據庫影像與該第二光罩影像；以及

基于該比較第二被顯示的數據庫影像與該第二光罩影像的步驟來決定該第二偏向因子的一新數值。

7.根據權利要求1所述的檢測光學微影光罩的方法，其特征在于，該第一光罩影像是有關于在一第一模式中造影，該檢測光學微影光罩的方法還包含：

接收關于在一第二模式中造影的一第二光罩影像，包含：

使用該第一設計數據庫來產生一第一光罩；以及

在該第二模式中對該第一光罩造影，以產生該第二光罩影像；其中該第一模式和該第二模式是有關于一性質，該性質是選自由數個項目所組成的一群組，該些項目為：使用于光罩造影的一模式；以及使用于光罩造影的一檢測平面；

通過一第二偏向因子來調整該第一設計數據庫的一圖形，以產生一第二被偏置的數據庫；

對該第一被偏置的數據庫進行影像顯示，以產生一第二被顯示的數據庫影像；

比較該第二被顯示的數據庫影像與該第二光罩影像；以及

基于該比較第二被顯示的數據庫影像與該第二光罩影像的步驟來決定該第二偏向因子的一新數值。