[發明專利]檢測光學微影光罩的方法及系統與裝置

有效

• 申請號: 201110044064.8
• 申請日: 2011-02-22
• 公開（公告）號: CN102385649A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 王淼鑫;賴建宏;涂志強;林佳仕;張宗裕
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G03F1/84;G06T7/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 陳紅

技術領域

本發明一般是有關于光學微影光罩，且特別是有關于一種檢測光學微影光罩的方法與系統。

背景技術

光學微影技術(photolithography)是一種于光敏媒介中產生變化的制程(process)。為了使用直接光學微影技術來選擇性地暴露出光敏媒介的數個部分，一阻光媒介或光罩是置放在光源與光敏媒介之間。另一方面，可用使一反射光罩來反射光至光敏媒介上。當圖形(或稱為光罩特征)是大的時候，光敏媒介暴露出的形狀是接近地對應至光罩的圖形的形狀。然而，當圖形縮小時，如繞射、邊緣效應(Fringing)和干涉的光行為變得較顯著。減少光源的波長可減少這些效應。在半導體的生產中，光學微影技術是使用紫外光源和如離子束、X光、極紫外光(EUV)和深紫外光(DUV)等輻射光束來進行。當高頻光不足時，光罩可能需要如飾紋(Serifs)或錘頭(Hammerheads)等修改，以暴露出所要的設計圖形。光罩亦可能需要次解析輔助圖形(Subresolution?Assist?Features)，這些圖形的尺寸不夠大到足以直接解析在光敏媒介上，但大到足以影響通過其它圖形的光行為。這些圖形是被稱為光學鄰近修正(Optical?Proximity?Correction；OPC)圖形。

使OPC圖形成為必需物的相同的光行為阻止光罩圖形被直接檢測，替代的是，使用模擬模型來預測在檢測時基于設計規格的光罩會如何出現。然后，可將此模型比較至光罩的一影像。然而，基于這些模型的比較會報導出相當數量的差異，而這些差異并不對應至實際光罩誤差(Error)。經常地，這些差異必須被人工評估，以決定是否需要光罩修正。評估是昂貴且費工耗時的。因此，增加這些模型的精確度及減少假性(偽)誤差的數量呈現出一真實價值。

發明內容

因此，本發明的一目的就是在提供一種檢測光學微影光罩的方法、系統與裝置，借以增加光罩檢測的精確度，來減少假性(偽)誤差的數量；減少有缺點的光罩被用于生產中的風險；及減少設計規則的警戒帶的需求。

根據本發明的一實施例，本發明提供一種檢測光學微影光罩的方法。此方法包含接收一第一設計數據庫；通過一偏向因子(Bias?Factor)來調整第一設計數據庫的一圖形，以產生一第一被偏置的數據庫(Biased?Database)；該第一被偏置的數據庫進行影像顯示(Image?Rendering)，以產生一第一被顯示的數據庫影像；接收一第一光罩影像；比較第一被顯示的數據庫影像與該第一光罩影像；以及基于比較步驟來決定該偏向因子的一新數值。

在又一實施例中，前述的比較步驟的一結果指出第一被顯示的數據庫影像與第一光罩影像間的一相配程度。

根據本發明的一實施例，本發明提供一種檢測光學微影光罩的系統。此系統包含一第一接口、一第二接口和一偏置模塊。第一接口是用以接收來自一設計實體的一設計數據庫。第二接口是用以接收來自一外部來源的一偏向因子。偏置模塊可被操作來通過偏向因子調整該設計數據庫的一圖形，以產生一被偏置的數據庫，被偏置的數據庫是用以檢測對應至設計數據庫而被制作的一光罩。

在又一實施例中，前述的比較模塊可操作來改善參考影像與光罩影像間的相配。

根據本發明的一實施例，本發明提供一種檢測光學微影光罩的裝置。此裝置包含一第一接口、一第二接口、和一非暫時性有實體的計算機可讀取儲存媒介。第一接口是用以接收來自一設計實體的一設計數據庫。第二接口是用以接收來自一外部來源的一偏向因子。非暫時性有實體的計算機可讀取儲存媒介儲存有一計算機程序，其中計算機程序具有數個指令，當被執行時，這些指令通過該偏向因子來進行調整設計數據庫的一圖形，以產生一被偏置的數據庫。被偏置的數據庫是用以檢測對應至設計數據庫而被制作的一光罩。

在又一實施例中，前述的計算機程序還具有一組指令，當被執行時，此組指令進行：產生來自前述的被偏置的數據庫的一被顯示的數據庫影像；以及比較前述的被顯示的數據庫影像與一光罩影像。

在又一實施例中，前述計算機程序還具有一組指令，當被執行時，此該組指令進行：改善前述的被顯示的數據庫影像與前述的光罩影像間的相配。

在又一實施例中，前述的偏向因子是有關于一性質，此性質可為：使用于光罩創作的一材料；使用于光罩造影的一模式；或使用于光罩造影的一檢測平面。

本發明的優點為，可減少假性(偽)誤差的數量；減少有缺點的光罩被用于生產中的風險；減少設計規則的警戒帶的需求；及大幅地減少需要評估光罩的時間。