[發明專利]一種打印機光譜特征化模型的修正方法

無效

• 申請號: 201110042430.6
• 申請日: 2011-02-22
• 公開（公告）號: CN102180003A
• 公開（公告）日: 2011-09-14
• 發明（設計）人: 徐海松;王彬宇
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: B41J2/00
• 分類號: B41J2/00;G01N21/25;G06K9/66
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 張法高

技術領域

本發明涉及一種打印機光譜特征化模型的修正方法，具體是涉及修正由不同墨水、紙張、溫度和空氣濕度等打印環境變化引起的光譜特征化模型精度降低的方法。

背景技術

打印機光譜特征化模型通常包括正和反兩個方向。正向光譜特征化模型是指建立從與設備相關的墨水配方（如，青、品紅、黃、黑的數字化設備驅動值）到與設備無關的光譜反射比之間的關系；反之，則稱為反向光譜特征化模型。由于人們常常希望通過打印可以獲得某一種顏色，因此反向模型一般更為實用。打印機光譜特征化模型的建立往往需要打印并測量幾百甚至幾千個訓練樣本。然而，所建立的模型僅僅適用于建模時的打印環境，包括墨水、紙張、溫度以及空氣濕度等。一旦改變墨水（即使是同一型號的墨水）、紙張、打印時的溫度和空氣濕度，模型的精度會急劇地降低，需要再次建模。但是，建模需重新打印大量的訓練樣本，這又是對墨水、紙張等耗材的浪費，也不符合節能環保的理念。對于上述問題，目前學術界和工業界都還沒有提出由于墨水、紙張、溫度已經空氣濕度等打印環境變化所導致光譜特征化模型精度降低的修正方法。

發明內容

本發明的目的是為了解決背景技術中所述的問題，提供一種打印機光譜特征化模型的修正方法。

打印機光譜特征化模型的修正方法，其特征在于包括正向打印機光譜特征化模型的修正和反向打印機光譜特征化模型的修正，其中：

正向打印機光譜特征化模型的修正的步驟如下：

1）選取20-50個基本覆蓋打印機色域的不同于訓練樣本的修正樣本，將其墨水配方作為輸入墨水配方，經原正向光譜特征化模型預測相應的光譜反射比R_pre；

2）在新的打印環境下，通過打印機輸出得到修正樣本的硬拷貝，并測得其正向目標光譜反射比R_target,正；

3）采用最小二乘法，分別用截距為0的線性方程，擬合所有修正樣本的R_pre和R_target,正在各波長的數據，并計算得出正向波長修正系數α_λ；

4）對于任一輸入墨水配方，先利用原正向光譜特征化模型進行預測，然后用正向波長修正系數α_λ修正原正向光譜特征化模型所預測的光譜反射比，得到基于新打印環境的預測光譜反射比；

反向打印機光譜特征化模型的修正的步驟如下：

5）選取20-50個基本覆蓋打印機色域且不同于訓練樣本的修正樣本，將其光譜反射比作為目標光譜反射比R_target,反，通過原反向光譜特征化模型預測相應的墨水配方；

6）在新的打印環境下，通過打印機輸出預測的墨水配方而得到修正樣本的硬拷貝，并測得復現光譜反射比R_rep；

7）采用最小二乘法，分別用，其截距為0的線性方程擬合所有修正樣本的R_target,反和R_rep在各波長的對應關系，并計算得出反向波長修正系數β_λ；

8）對于任一輸入目標光譜反射比，以反向波長修正系數β_λ來修正目標光譜反射比R_target,反，求得修正后的目標光譜反射比R’_target,反，并將作為原反向特征化模型的輸入目標光譜反射比，再經原反向光譜特征化模型預測在新打印環境下的墨水配方，實現原反向光譜特征化模型在新的打印環境下的準確復現。

本發明通過打印并測量20-50個修正樣本以獲得相應的波長修正系數，然后再對打印機光譜特征化模型的輸入或輸出參數進行修正，即可有效地補償因打印環境變化所造成的打印機光譜特征化模型精度之降低，克服了重新建立特征化模型所造成的浪費與不便。

附圖說明

圖1是正向打印機光譜特征化模型的修正流程圖；

圖2是反向打印機光譜特征化模型的修正流程圖；

圖3是波長400nm的正向波長修正系數計算示意圖。

具體實施方式

打印機光譜特征化模型的修正方法包括正向打印機光譜特征化模型的修正和反向打印機光譜特征化模型的修正、其中：

正向打印機光譜特征化模型的修正的步驟如下：