[發明專利]一種打印機光譜特征化模型的修正方法

無效

• 申請號: 201110042430.6
• 申請日: 2011-02-22
• 公開（公告）號: CN102180003A
• 公開（公告）日: 2011-09-14
• 發明（設計）人: 徐海松;王彬宇
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: B41J2/00
• 分類號: B41J2/00;G01N21/25;G06K9/66
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 張法高

1.一種打印機光譜特征化模型的修正方法，其特征在于包括正向打印機光譜特征化模型的修正和反向打印機光譜特征化模型的修正，其中：

正向打印機光譜特征化模型的修正的步驟如下：

1）選取20-50個基本覆蓋打印機色域的不同于訓練樣本的修正樣本，將其墨水配方作為輸入墨水配方，經原正向光譜特征化模型預測相應的光譜反射比R_pre；

2）在新的打印環境下，通過打印機輸出得到修正樣本的硬拷貝，并測得其正向目標光譜反射比R_target,正；

3）采用最小二乘法，分別用截距為0的線性方程，擬合所有修正樣本的R_pre和R_target,正在各波長的數據，并計算得出正向波長修正系數α_λ；?

4）對于任一輸入墨水配方，先利用原正向光譜特征化模型進行預測，然后用正向波長修正系數α_λ修正原正向光譜特征化模型所預測的光譜反射比，得到基于新打印環境的預測光譜反射比；

反向打印機光譜特征化模型的修正的步驟如下：

5）選取20-50個基本覆蓋打印機色域且不同于訓練樣本的修正樣本，將其光譜反射比作為目標光譜反射比R_target,反，通過原反向光譜特征化模型預測相應的墨水配方；

6）在新的打印環境下，通過打印機輸出預測的墨水配方而得到修正樣本的硬拷貝，并測得復現光譜反射比R_rep；

7）采用最小二乘法，分別用截距為0的線性方程擬合所有修正樣本的R_rep和R_target,反在各波長的對應關系，并計算得出反向波長修正系數β_λ；?

8）對于任一輸入目標光譜反射比，以反向波長修正系數β_λ來修正目標光譜反射比R_target,反，求得修正后的目標光譜反射比R’_target,反，并作為原反向特征化模型的輸入目標光譜反射比，再經原反向光譜特征化模型預測在新打印環境下的墨水配方，實現原反向光譜特征化模型在新的打印環境下的準確復現。