[發明專利]應用高壓轉印包覆模塑移動互聯網設備天線的方法無效
| 申請號: | 201110034301.2 | 申請日: | 2011-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN102623794A | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發明(設計)人: | 尹承輝;王勝弘;胡士豪;胡健華 | 申請(專利權)人: | 紐西蘭商青島長弓電子公司 |
| 主分類號: | H01Q1/38 | 分類號: | H01Q1/38;H01Q1/40;H01Q1/22 |
| 代理公司: | 北京匯智英財專利代理事務所 11301 | 代理人: | 劉祖芬 |
| 地址: | 新西蘭奧克蘭大區懷*** | 國省代碼: | 新西蘭;NZ |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 應用 高壓 轉印包覆模塑 移動 互聯網 設備 天線 方法 | ||
技術領域
本發明的領域是有關于移動裝置的天線的工藝,尤其是應用高壓轉印(OMD)包覆模塑移動互聯網設備(MID)天線的方法。
背景技術
由于資訊科技的蓬勃發展,帶動了無線通信技術的進步,移動裝置儼然成為現代人必備的溝通工具。因此,對移動電話功能需求也日益增加。由于無線通訊的電波必須經升頻,載波,才可以做有效的多工傳送,所以必須借助天線才能進行這些動作。因此天線是無線通訊設備中相當重要的元件。傳統的天線主要是外置式的天線,如采用螺旋(helical?)天線或偶極(dipole)型式的天線。只是這些款式的天線外露在機殼的外部,所以很容易折損,再者也會使得機體的體積增加。近來慢慢的使用內置型的天線取代傳統的外置式天線。傳統的內置式天線主要是平面倒F天線(PIFA)天線的型式,通常是由射頻元件及其基體固定支架組成。射頻元件是一定形狀的金屬件或軟印刷電路板或剛性印刷電路板。近來已開發在模塑移動互聯網設備(MID)天線的制造技術,以在移動裝置的機殼上配置天線。
傳統上在模塑移動互聯網設備(MID)制造天線一般可有兩種不同的方式:分別為雙射鑄模(Two?Shot?Molding)法及激光活化(Laser?Direct?Structuring,?LDS)法。
其中雙射鑄模顧名思義即做兩次的射出作業,其步驟為:先以塑膠射出作業形成一底材(一般即為一電子裝置的機殼),在射出作業中同時在該底材預留形成一凹陷區,即天線的線路。再進行第二次射出作業,將可電鍍的塑膠注入該凹陷區。然后應用化學鍍的方式在該第二次射出的塑膠的表面上鍍導電金屬,此導電金屬即為天線。至于激光活化(LDS)的方式,其步驟為:?先以塑膠射出作業形成一基底,其中該基底為摻雜金屬添加物的塑膠材料。在基底表面上預定形成天線處以激光活化,經活化的基底表面即可鍍上金屬。
為了使基材表面的天線與基材背面的電路連通,不管是采用雙射鑄模法或激光活化法(LDS)制作天線,通常都會在基材表面上安排連通基材兩面的通孔,再以化鍍于通孔內壁的表面產生金屬層,達成基材兩面的電路連通。因此以雙射鑄模法或激光活化法(LDS)制作天線,便會于基材外表上產生孔洞,影響觀瞻。
此外,如果采用雙射鑄模法,容易在兩次射出的接合處產生斷差,或結合力不足,容易造成基材表面不平整,或該零件使用過程中,也可能因為外力因素,或工件本身內應力,造成兩次射出的接合處出現翹曲不平的狀態,影響天線特性以及外觀。
另外,不管是采用雙射鑄模法或激光活化法(LDS)制作天線,通常都必須在基材表面再噴漆,以保護基材表面,并裝飾外觀或改變觸感。
發明內容
本發明的目的為提出一種應用高壓轉印(OMD)包覆模塑移動互聯網設備(MID)天線的方法,其可改進模塑移動互聯網設備(MID)天線現有技術的缺點,而提供更為平坦美觀且耐用的零件。
為達到上述目的,本發明中提出一種應用高壓轉印(OMD)包覆模塑移動互聯網設備(MID)天線的方法,該方法包含下列步驟:取一MID基材及一塑膠薄膜;其中該MID基材上已形成一金屬層,該金屬層為一天線電路;該塑膠薄膜可以是素面的,或者可于其上印刷圖案,并涂布接著材料;將該薄膜夾置于一夾座上,然后以加熱器加熱軟化該薄膜;隨后將該夾座連同該薄膜覆蓋在MID基材的上方,并于該薄膜的下方抽真空,并于薄膜的上方加高壓空氣,而使得該薄膜受壓,以致緊緊地附著在該MID基材上方,達成遮蔽基材上的通孔、高度斷差,以美化基材外觀,并保護天線的目的。
附圖說明
圖1示本發明的MID基材及塑膠膜的示意圖。
圖2示本發明中以加熱器加熱該薄膜的示意圖。
圖3示本發明中將該薄膜覆蓋在該鍍有天線的MID基材的示意圖。
圖4示本發明中抽真空及加高壓作業的示意圖。
圖5示本發明中打開上下兩空腔取出已包覆薄膜的MID基材示意圖。
圖6示本發明中以裁切工具裁切MID基材邊緣的薄膜示意圖。
圖7示雙射鑄模中射出具有凹陷區的底材的示意圖。
圖8示雙射鑄模中第二次射出可鍍塑膠的示意圖。
圖9示雙射鑄模中在可鍍塑膠上鍍金屬的作業的示意圖。
圖10示基底為摻雜金屬添加物的塑膠材料示意圖。
圖11示基底經激光活化并鍍上金屬的示意圖。
圖12示基底設置通孔以導通兩面電路的示意圖。
圖13示對基底通孔置入填充材料的示意圖。
圖14示對基底通孔置入填充材料的示意圖。
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