[發(fā)明專利]微波輻射制備吉米奇表面活性劑改性蒙脫土的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110008908.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-01-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102167347A | 公開(公告)日: | 2011-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王小英;劉博;孫潤倉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C01B33/44 | 分類號(hào): | C01B33/44;B01J19/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微波 輻射 制備 吉米奇 表面活性劑 改性 蒙脫土 方法 | ||
1.一種微波輻射制備吉米奇表面活性劑改性蒙脫土的方法,其特征在于以蒙脫土為原料,以吉米奇表面活性劑為改性劑,在微波輻射條件下,發(fā)生陽離子交換反應(yīng),經(jīng)過分離提純后,冷凍干燥得到改性蒙脫土。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波輻射制備吉米奇表面活性劑改性蒙脫土的方法,其特征在于所述蒙脫土為鈉基型蒙脫土,陽離子交換量為80~120meq/100g。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波輻射制備吉米奇表面活性劑改性蒙脫土的方法,其特征在于具體步驟如下:將蒙脫土分散在去離子水中,配成質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.2%~2.0%的蒙脫土懸浮液,在室溫下攪拌16h~24h后置于微波反應(yīng)器中,調(diào)節(jié)微波輻射功率為400W~800W,輻射溫度為60℃~80℃;將質(zhì)量為0.1~0.5倍蒙脫土陽離子交換量的吉米奇表面活性劑溶于與去離子水等體積的體積濃度為20%~100%的異丙醇中,得混合液;將所述混合液在1~5分鐘內(nèi)滴入攪拌下的蒙脫土懸浮液中,反應(yīng)5min~30min后用體積濃度為50%的異丙醇離心洗滌至無Cl-或Br-,冷凍干燥后得到吉米奇表面活性劑改性蒙脫土。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波輻射制備吉米奇表面活性劑改性蒙脫土的方法,其特征在于所述吉米奇表面活性劑為雙烷基鏈吉米奇表面活性劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微波輻射制備吉米奇表面活性劑改性蒙脫土的方法,其特征在于所述雙烷基鏈吉米奇表面活性劑為丙撐基雙(十八烷基二甲基氯化銨)、丙撐基雙(十二烷基二甲基氯化銨)、乙撐基雙(十八烷基二甲基溴化銨)或乙撐基雙(十二烷基二甲基溴化銨)中的任一種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華南理工大學(xué),未經(jīng)華南理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110008908.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





