[發明專利]鍍膜件及其制備方法

無效

• 申請號: 201110006663.0
• 申請日: 2011-01-13
• 公開（公告）號: CN102586728A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;李聰
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜件及其制備方法，尤其涉及一種具有抗指紋功能的鍍膜件及該鍍膜件的制備方法。

背景技術

傳統技術中，早期抗指紋化處理一般是采用在不銹鋼的鍍鋅層上形成鉻酸鹽層及特殊的樹脂層。該方法首先需要在不銹鋼板上電鍍一層鋅，然后施以鉻酸鹽處理，最后以滾壓的方式涂上一層樹脂，其工藝繁鎖，且需要使用鉻酸鹽處理，環境污染嚴重，成本較高。

因此，為避免污染，降低成本，人們開始研究新的抗指紋材料。目前工業上使用較多的是在基體上噴涂一層有機化學物質，如抗指紋涂料和抗指紋油等，通過加熱干燥使其附著在基體上。但是這種涂層的制備工藝也較復雜，而且摻雜于抗指紋涂料和抗指紋油中的有些填料還存在游離甲醛等，不利于環保和人體健康。另外，這種有機涂層耐磨性能差，使用一段時間后容易磨損，使得基體被暴露出來，防腐蝕性能大幅下降且影響美觀。此外，抗指紋油的使用會使涂層表面看起來很油膩，大大降低了視覺美感。

發明內容

鑒于此，有必要提供一種較為環保的、抗指紋性能佳且效果較為持久的鍍膜件。

另外，還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。

一種鍍膜件，其包括基體及形成于基體表面的抗指紋層，該抗指紋層為納米級碳氮氟層，其化學式為C_XN_1-XF_Y，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。

一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供一基體；

以石墨靶為靶材，以氮氣、四氟化碳氣體為反應氣體，采用磁控濺射鍍膜法在該基體的表面濺鍍納米級碳氮氟的抗指紋層，該納米級碳氮氟的化學式為C_XN_1-XF_Y，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。

相較于現有技術，所述的鍍膜件采用磁控濺射鍍膜的方法在基體表面形成一納米級碳氮氟的抗指紋層，該納米級碳氮氟層的表面能低，可實現較佳的抗指紋功能。另外，所述的抗指紋層以磁控濺射鍍膜的方法形成，相較于傳統的抗指紋材料，其具有較好的耐磨性，可防止所述抗指紋層被磨損，使得所述的鍍膜件的抗指紋功能更持久，外觀上也更具有美感。另外，所述鍍膜件及其制備方法較為環保。

附圖說明

圖1是本發明較佳實施方式的鍍膜件的剖視示意圖。

圖2是本發明較佳實施方式的磁控濺射鍍膜機的俯視示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜件??????????????????10

基體????????????????????11

抗指紋層????????????????13

磁控濺射鍍膜機??????????20

鍍膜室??????????????????21

石墨靶??????????????????23

具體實施方式

請參閱圖1，本發明一較佳實施方式的鍍膜件10包括基體11及形成于基體11上的抗指紋層13。

基體11的材質可為不銹鋼或玻璃。

抗指紋層13為納米級碳氮氟層，其化學式為C_XN_1-XF_Y，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。該抗指紋層13可以磁控濺射鍍膜法形成，如中頻磁控濺射鍍膜法。該抗指紋層13的厚度為600-900nm。

對所述鍍膜件10進行了水油接觸角測試，結果顯示，所述抗指紋層13與水油混合物的接觸角在108-111°之間，證明所述鍍膜件10具有良好的抗指紋功能。

本發明較佳實施方式的鍍膜件10的制備方法包括如下步驟：

提供基體11，并對該基體11進行清潔前處理。該清潔前處理可包括以下步驟：

依次用去離子水及無水乙醇對基體11表面進行擦拭。

將基體11放入盛裝有丙酮溶液的超聲波清洗器中進行超聲波清洗，以除去基體11表面的雜質和油污等。

對經上述清潔前處理后的基體11的表面進行等離子體清洗，以進一步去除基體11表面的臟污，以及改善基體11表面與后續鍍層的結合力。