[發(fā)明專利]正型光敏組合物

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110004262.1
• 申請日: 2011-01-11
• 公開（公告）號: CN102141732A
• 公開（公告）日: 2011-08-03
• 發(fā)明（設計）人: 姜錫燦;李進翰
• 申請（專利權）人: 韓國錦湖石油化學株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027
• 代理公司: 北京同達信恒知識產(chǎn)權代理有限公司 11291
• 代理人: 李中奎;黃志華

相關申請的交叉引用

本申請要求2010年1月22日在韓國知識產(chǎn)權局提交的韓國專利申請No.10-2010-0005910的優(yōu)先權，其公開內容以引用的方式并入本申請。

技術領域

本發(fā)明涉及一種在半導體制造過程中使用的正型光敏組合物。

背景技術

一般來說，在半導體制造中使用的光敏組合物大多數(shù)顯示正型，因為被曝光部分通過紫外線照射在堿水溶液中溶解。所述組合物可包含溶解在所述堿水溶液中的樹脂、在所述堿水溶液中不溶解而且對紫外線敏感的光敏化合物和其他添加劑。

作為在所述堿水溶液中溶解的樹脂的實例，可以提到聚酰胺衍生物。此樹脂可通過加熱被轉化為聚酰胺和聚苯并噁唑，從而顯示耐熱樹脂的特性。在現(xiàn)有技術中，可使用不具有光敏性的組合物，然而近年來，為了簡化過程的目的，出現(xiàn)了優(yōu)選具有光敏性的組合物的趨勢。采用一般的聚酰胺衍生物制成的光敏組合物會表現(xiàn)差的熱穩(wěn)定性，從而會對圖案形成產(chǎn)生不利影響，或者在約350℃經(jīng)受交聯(lián)處理時出現(xiàn)明顯的體積減縮，因而需要使用單獨的交聯(lián)劑。在此情況下，由于具有交聯(lián)特性的化合物的特性，所述圖案的分辨率會被降低，且在交聯(lián)過程中分子間的交聯(lián)程度會嚴重，從而聚酰亞胺樹脂的固有特性的延展性會降低。當形成所述圖案的時候，這些添加劑會降低光敏性，從而處理時間會被延長。

在近期的半導體制造過程中，光敏組合物可被涂在薄片上然后經(jīng)受圖案化，且在350℃下被加熱1個小時從而在薄膜上進行交聯(lián)。當交聯(lián)溫度升高的時候，在半導體裝置上會產(chǎn)生不利的影響。

相應地，需要即使在較低溫度下仍具有高的可靠性的組合物。

發(fā)明內容

本發(fā)明一方面提供了一種具有優(yōu)異的粘附性和耐熱性的高敏感度的光敏樹脂組合物。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種光敏樹脂組合物，基于100重量份的聚酰胺衍生物，該光敏樹脂組合物包含0.1到20重量份的多面體低聚硅倍半氧烷(polygonal?oligomeric?silsesquioxane)衍生物，和5到30重量份的光致生成酸化合物。

本發(fā)明的其它方面、特征和/或優(yōu)點將在接下來的描述中部分地闡述，在所述描述中將變得清楚，或者可通過本發(fā)明的實踐而領會。

效果

根據(jù)示例性實施方案，提供了一種光敏樹脂組合物，即使在較低溫度下，該光敏樹脂組合物也可容易地交聯(lián)，可對于基板具有優(yōu)異的粘附性從而減小在顯影過程中的次品比例，且可具有優(yōu)異的耐熱性從而減小由于熱引起的次品比例。

發(fā)明內容

以下，根據(jù)實施例的光敏樹脂組合物將被詳細描述。

所述光敏樹脂組合物可基于100重量份的聚酰胺衍生物包含0.1到20重量份的多面體低聚硅倍半氧烷衍生物，和5到30重量份的光致生成酸化合物。

所述聚酰胺衍生物可通過使例如二羧酸和二氨基苯酚等的聚合體反應來生成，且所述聚合體可包含酸性官能團或者衍生的取代基。

所述聚酰胺衍生物可由以下化學式1表示：

[化學式1]

其中R¹、R²、R⁴和R⁵各自獨立地表示具有至少2個碳原子的二價到六價的芳基；R³表示氫原子或者具有1到10個碳原子的烷基；k表示10到1000的整數(shù)；l表示1到1000的整數(shù)；n和m各自獨立地表示0到2的整數(shù)(n+m＞0)；且X表示氫原子或者具有2到30個碳原子的芳基。

此外，所述聚酰胺衍生物可由以下化學式2表示：

[化學式2]

其中R¹和R²各自獨立地表示具有至少2個碳原子的二價到六價的芳基；R³表示氫原子或者具有1到10個碳原子的烷基；l表示10到1000的整數(shù)；n和m各自獨立地表示0到2的整數(shù)(n+m＞0)；X表示氫原子或者具有2到30個碳原子的芳基。

在以上的化學式1和2中，由接下來的化學式表示的基團可作為基團R¹的實例，且所述基團可單獨或者組合使用。

[化學式]

此外，在以上的化學式1和2中R²可包含由以下化學式表示的基團，且所述基團可單獨或者組合使用。

[化學式]

在以上化學式1中，R⁴和R⁵可為氫原子、鹵原子、羥基、羧基、硫醇基、具有1到10個碳原子的烷基和具有1到10個碳原子的芳基中的任一個。