[發明專利]正型光敏組合物

無效

• 申請號: 201110004262.1
• 申請日: 2011-01-11
• 公開（公告）號: CN102141732A
• 公開（公告）日: 2011-08-03
• 發明（設計）人: 姜錫燦;李進翰
• 申請（專利權）人: 韓國錦湖石油化學株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 李中奎;黃志華

1.一種光敏樹脂組合物，基于100重量份的聚酰胺衍生物，該光敏樹脂組合物包含0.1到20重量份的多面體低聚硅倍半氧烷衍生物，和5到30重量份的光致生成酸化合物。

2.如權利要求1所述的光敏樹脂組合物，其中所述聚酰胺衍生物由以下化學式1表示：

[化學式1]

其中R¹、R²、R⁴和R⁵各自獨立地表示具有至少2個碳原子的二價到六價的芳基；R³表示氫原子或者具有1到10個碳原子的烷基；k表示10到1000的整數；l表示1到1000的整數；n和m各自獨立地表示0到2的整數(n+m＞0)；且X表示氫原子或者具有2到30個碳原子的芳基。

3.如權利要求1所述的光敏樹脂組合物，其中所述聚酰胺衍生物化合物由以下化學式2表示：

[化學式2]

其中R¹和R²各自獨立地表示具有至少2個碳原子的二價到六價的芳基；R³表示氫原子或者具有1到10個碳原子的烷基；l表示10到1000的整數；n和m各自獨立地表示0到2的整數(n+m＞0)；X表示氫原子或者具有2到30個碳原子的芳基。

4.如權利要求1所述的光敏樹脂組合物，其中所述多面體低聚硅倍半氧烷衍生物可由以下化學式3表示：

[化學式3]

(RSiO_3/2)_n，

R表示氫原子，具有1到30個碳原子的取代或未取代的脂肪族或芳香族單鍵，以及包含硅、氧、硫和氮中的一種的有機基中的一個，且n表示6到14的一個整數。

5.如權利要求1所述的光敏樹脂組合物，其中所述多面體低聚硅倍半氧烷衍生物可由以下化學式4表示：

[化學式4]

(RSiO_3/2)₁(RXSiO)_m，

R表示氫原子，具有1到30個碳原子的取代或未取代的脂肪族或芳香族單鍵，以及包含硅、氧、硫和氮中的一種的有機基中的一個，X表示O?R′，R′表示氫原子、烷基、芳基和鹵原子中的一種，l表示一個4到15的整數，且k表示一個1到5的整數。

6.如權利要求1所述的光敏樹脂組合物，其中所述光致生成酸化合物包含重氮萘酚。

7.如權利要求1所述的光敏樹脂組合物，進一步包括從由防腐蝕制劑、表面活性劑和防泡劑組成的組中選擇的至少一種添加劑。

8.一種圖案形成方法，包括：

在基板上施加光敏樹脂組合物，基于100重量份的聚酰胺衍生物，所述光敏樹脂組合物包含0.1到20重量份的多面體低聚硅倍半氧烷衍生物，和5到30重量份的光致生成酸化合物；

干燥施加了所述光敏樹脂組合物的基板；

曝光被干燥的所述基板；

顯影經曝光的基板；且

熱處理經顯影的基板。

9.一種包含以圖案形成方法形成的圖案層的半導體設備，所述圖案形成方法包括：

在基板上施加光敏樹脂組合物，基于100重量份的聚酰胺衍生物，所述光敏樹脂組合物包含0.1到20重量份的多面體低聚硅倍半氧烷衍生物，和5到30重量份的光致生成酸化合物；

干燥施加了所述光敏樹脂組合物的基板；

曝光被干燥的所述基板；

顯影經曝光的基板；且

熱處理經顯影的基板。