[發(fā)明專利]分面反射鏡裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080069330.6
• 申請日: 2010-07-28
• 公開（公告）號: CN103140782B
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發(fā)明（設計）人: J.哈特杰斯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B5/09
• 分類號: G02B5/09;G02B5/08;G03F7/20;G02B7/182
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

本發(fā)明提供了一種分面反射鏡裝置，其包含分面元件和支撐元件，該支撐元件支撐所述分面元件。所述分面元件包含彎曲的第一支撐部分，而支撐元件包含第二支撐部分，第二支撐部分形成與第一支撐部分在接觸區(qū)域中接觸的支撐邊緣，以支撐分面元件。

技術領域

本發(fā)明涉及分面(facet)反射鏡裝置，其可用于在曝光工藝中使用的光學裝置中，尤其是用于微光刻系統(tǒng)中。本發(fā)明還涉及包含這種分面反射鏡裝置的光學成像設備。本發(fā)明還涉及支撐分面反射鏡裝置的分面元件的方法和制造分面反射鏡裝置的方法。本發(fā)明可用于制造微電子器件、尤其是半導體器件的光刻工藝的背景中，或者用于制造這種光刻工藝期間使用的諸如掩?；蜓谀Ｄ赴娴难b置的背景中。

背景技術

典型地，在制造諸如半導體器件的微電子器件的背景中使用的光學系統(tǒng)包含多個光學元件模塊，其在光學系統(tǒng)的光路上包含光學元件，例如透鏡、反射鏡、光柵等。這些光學元件通常在曝光過程中合作，以照明形成在掩模、掩模母版等上的圖案，以及將該圖案的圖像轉移至諸如晶片的基底上。通常，光學元件組合成一個或多個功能上不同的光學元件組，其可保持在不同的光學元件單元中。作為上面提及的一種，分面反射鏡裝置等可用作使曝光光束均勻化，即使得曝光光束中的功率分布(power distribution)盡可能均勻。

由于半導體器件的不斷小型化，不僅僅存在對用于制造這些半導體器件的光學系統(tǒng)的增強的分辨率的持久需要，也存在對該光學系統(tǒng)的增強的精度的需要。明顯地，該精度不僅僅必須在開始時出現(xiàn)，而且必須在光學系統(tǒng)的整個操作期間得到保持。在該背景下的一個具體問題是從光學組件適當?shù)匾瞥裏?，以避免這些組件的不均勻熱膨脹，該不均勻熱膨脹導致這些組件的不均勻變形，并且最終導致不期望的成像誤差。

因此，高精密分面反射鏡裝置已經得到發(fā)展，例如，在DE10205425A1(Holderer等)和DE 10324796A1(Roβ-Meβemer)中公開了它們，通過引用分別將這些文獻的全部公開合并于此。

這些文件等還顯示了如下分面反射鏡裝置，其中具有球形后表面的分面元件位于在支撐元件內的關聯(lián)的凹槽中。球形后表面依靠在界定(confine)該凹槽的支撐元件的相應球形壁上。雖然這種球對球分界面理論上可提供大的接觸面積，使得從分面元件至支撐元件具有良好傳熱性，但該大的接觸面積主要依賴于分面元件和支撐元件二者的制造精度。尤其是，在空間的所有三個方向上以幾微米或更小的精度(如在很多情況下所需要的)制造球形凹槽是相當昂貴的。

為了克服該問題，DE 10324796A1(Roβ-Meβemer)提出將相對軟的涂層(例如金涂層)置于所述球形表面中的一個上，其通過變形而彌補制造公差。然而，盡管該涂層的硬度低，但是由于大的接觸面積，這種變形需要相對大的力，這傾向于將不期望的變形引入到分面元件中。

在DE 10205425A1(Holderer等)中公開了另一方法，其中分面元件的球形后表面，或多或少以線接觸依靠在圓錐形壁上，該圓錐形壁界定接收分面元件的凹槽。由于線接觸，該解決方法提供了較低的傳熱性，而依然沒有顯著減少對于使圓錐形壁具有期望的精度所必需的制造努力(manufacturing effort)。

DE 10205425A1(Holderer等)中公開了支撐分面元件的第三種方法，其中分面元件的球形后表面，或多或少以三點接觸依靠在三個小球體上，該三個小球體的每一個都位于支撐銷元件的自由末端。這里，熱傳遞甚至更差，雖然仍沒有顯著減少對于使三個球體具有期望的精度所必需的制造努力。

在上述所有的三種情況下，將操縱桿連接至分面元件的后表面，相應操縱器作用于所述操縱桿上，以調節(jié)分面元件關于支撐元件的位置，以及主要調節(jié)分面元件關于支撐元件的取向。此外，在一些情況下，一旦調節(jié)了分面元件，則使用操縱桿相對于支撐元件固定分面元件。

該解決方法具有如下缺點，即操縱桿不僅增加分面元件而且增加諸如支撐元件的其他組件的復雜性，并最終增加成本。此外，需要多個操縱器產生相互抵消的操縱力，以允許在合理的時間量中進行精確調節(jié)。