[發(fā)明專利]涂覆玻璃基板的設(shè)備及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080067579.3
• 申請日: 2010-06-21
• 公開（公告）號: CN102947010A
• 公開（公告）日: 2013-02-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·考皮寧;M·拉賈拉
• 申請（專利權(quán)）人: BENEQ有限公司
• 主分類號: B05B5/08
• 分類號: B05B5/08;B05B5/03;C03C17/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 張濤

1.一種使用一種或多種液態(tài)原材料涂覆玻璃基板（15）的設(shè)備，所述設(shè)備包括：

－至少一個霧化器（2），用于將所述一種或多種液態(tài)原材料霧化成微滴（3）；

－充電部件（4；32），用于在霧化期間或霧化之后對所述微滴（3）電性充電；

－沉積腔室（16），用于在所述玻璃基板（15）上提供涂層，所述沉積腔室（16）設(shè)置有一個或多個電場，用于朝向所述玻璃基板（15）引導(dǎo)電性充電的所述微滴（3），其特征在于，所述設(shè)備還包括：

－充電腔室（1），所述充電腔室布置在所述沉積腔室（16）的上游，并且設(shè)置有充電部件（4），用于對所述微滴（3）電性充電。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電腔室（1）與所述沉積腔室（16）分隔開，并且與所述沉積腔室流體連通。

3.如權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，所述至少一個霧化器（2）布置在所述充電腔室（1）內(nèi)或布置在所述充電腔室（1）的上游。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述霧化器（2）為雙流體霧化器，并且，所述充電部件（32）設(shè)置成用于對所述雙流體霧化器（2）中使用的氣體的至少一部分進(jìn)行充電，以對所述微滴（3）電性充電。

5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電部件包括噴吹充電器，所述噴吹充電器將電性充電的氣體供應(yīng)到所述沉積腔室（16）中，以對所述微滴（3）充電。

6.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電部件（4）布置在所述充電腔室（1）中，用于對所述微滴（3）電性充電。

7.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電部件（4）包括一個或多個電暈電極（4；32），用于對所述雙流體霧化器（2）中使用的氣體或?qū)λ纬傻乃鑫⒌危?）電性充電。

8.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電腔室（1）包括橫向于或平行于所述微滴（3）的移動方向延伸的一個或多個細(xì)長的電暈電極。

9.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電腔室（1）包括大體上均勻地分布在所述充電腔室（1）的至少一個壁上的若干個單獨(dú)的電暈電極。

10.如權(quán)利要求8或9所述的設(shè)備，其特征在于，所述電暈電極中的至少一些具有不同的電暈電壓，用于在所述充電腔室（1）的不同部分中為所述微滴（3）提供不同的電性充電。

11.如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述充電腔室（1）包括一個或多個出口開口（9），電性充電的所述微滴（3）通過所述出口開口（9）被引導(dǎo)出所述充電腔室（1）且被引導(dǎo)進(jìn)入所述沉積腔室（16）。

12.如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括電荷計(jì)（10，11），用于計(jì)量與所述微滴（3）一起離開所述充電腔室（1）的電荷。

13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，所述電荷計(jì)（10，11）布置在所述充電腔室（1）和所述沉積腔室（16）之間，或布置在所述充電腔室（1）的出口開口（9）處，或布置在所述沉積腔室（16）的入口開口處。

14.如權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，一個或多個電場在所述沉積腔室（16）中設(shè)置在相對的電極（13，14）之間，且所述基板（15）在所述電極（13，14）之間定位在所述沉積腔室（16）中。

15.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，所述沉積腔室（16）設(shè)置有沿著所述微滴（3）在所述沉積腔室（16）內(nèi)的移動方向相鄰地和/或相繼地布置的兩個或更多個電場。

16.如權(quán)利要求14或15所述的設(shè)備，其特征在于，所述電場中的至少一些具有不同的電場強(qiáng)度，用于調(diào)整電性充電的所述微滴（3）所述沉積腔室（16）中的分布。

17.如權(quán)利要求1至16中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括熱反應(yīng)器，所述熱反應(yīng)器設(shè)置在所述沉積腔室（16）中，用于在所述起始材料在所述基板（15）的表面上發(fā)生反應(yīng)之前蒸發(fā)所述微滴（3）。