[發(fā)明專利]直線淀積源

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080059907.5
• 申請(qǐng)日: 2010-06-17
• 公開（公告）號(hào): CN102686765A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C·康羅伊;S·W·普里迪;J·A·達(dá)爾斯特倫;R·布雷斯納漢;D·W·戈特霍德;J·帕特林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 維易科精密儀器國(guó)際貿(mào)易(上海)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 王初

技術(shù)領(lǐng)域

這里使用的章節(jié)標(biāo)題僅用于組織目的，并且決不應(yīng)該解釋為限制在本申請(qǐng)中描述的主題。

相關(guān)申請(qǐng)部分

本申請(qǐng)是在2009年11月30日提交的、標(biāo)題為L(zhǎng)inear?Deposition?Source（直線淀積源）的美國(guó)專利申請(qǐng)12/628,189的部分繼續(xù)，后者要求對(duì)于在2009年2月27日提交的、標(biāo)題為“Deposition?Sources,Systems,and?Related?Methods?for?Co-Depositing?Copper，Indium,and?Gallium（用來(lái)共同淀積銅、銦以及鎵的淀積源、系統(tǒng)以及相關(guān)方法）”的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)61/156,348；和在2008年12月18日提交的、標(biāo)題為“Deposition?Sources,Systems,and?Related?Methods?for?Co-Depositing?Copper，Indium,and?Gallium（用來(lái)共同淀積銅、銦以及鎵的淀積源、系統(tǒng)以及相關(guān)方法）”的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)61/138,932，兩者的優(yōu)先權(quán)。美國(guó)專利申請(qǐng)12/628,189、美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)61/156,348及美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)61/138,932的全部說(shuō)明書通過(guò)參引并入本文。

背景技術(shù)

多年來(lái)，大面積基片淀積系統(tǒng)已經(jīng)用來(lái)處理多種類型基片材料的柔性腹板基片和剛性面板基片。多種已知系統(tǒng)設(shè)計(jì)成，處理塑料腹板基片和剛性面板玻璃基片。腹板基片或剛性面板直接在直線淀積源上方通過(guò)。已知直線淀積源包括船形坩鍋，這些已知直線淀積源適于將材料蒸發(fā)在腹板基片上或在剛性面板基片上，該船形坩鍋典型地由用來(lái)包含淀積源材料的耐火材料形成。將坩鍋放置在蒸汽出口管的內(nèi)部。蒸汽出口管同時(shí)起到蒸發(fā)空間和分配蒸汽的空間的作用。一個(gè)或更多個(gè)蒸汽出口開口沿著源按直線排列。

附圖說(shuō)明

在聯(lián)系附圖進(jìn)行的如下詳細(xì)描述中，更具體地描述按照優(yōu)選和示范實(shí)施例的本發(fā)明、以及其另外的優(yōu)點(diǎn)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解，下面描述的附圖僅為了說(shuō)明目的。附圖不必按比例，而是總體上著重于說(shuō)明本發(fā)明的原理。附圖決不用于限制本發(fā)明的范圍。

圖1A示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的立體橫截面圖，該直線淀積源包括多個(gè)坩鍋，這些坩鍋聯(lián)接到多條傳導(dǎo)通道上，并且然后聯(lián)接到處于直線構(gòu)造的多個(gè)噴嘴上。

圖1B示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的立體橫截面圖，該直線淀積源包括多個(gè)坩鍋，這些坩鍋聯(lián)接到單條傳導(dǎo)通道上，并且然后聯(lián)接到處于直線構(gòu)造的多個(gè)噴嘴上。

圖2A示出聯(lián)系圖1A和1B描述的直線淀積源的橫截面圖，這些直線淀積源具有多個(gè)噴嘴，這些噴嘴定位成，它們?cè)谙蛏戏较蛏险舭l(fā)淀積材料。

圖2B示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的橫截面圖，該直線淀積源具有多個(gè)噴嘴，這些噴嘴定位成，它們?cè)谙蛳路较蛏险舭l(fā)淀積材料。

圖2C示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的橫截面圖，該直線淀積源具有本體，該本體包括多個(gè)噴嘴，這些噴嘴定位在豎向方向上。

圖2D示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)直線淀積源的橫截面圖，該直線淀積源具有本體，該本體包括多個(gè)噴嘴，這些噴嘴定位在豎向方向上。

圖3A示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的立體橫截面圖，該直線淀積源包括單個(gè)坩鍋，該單個(gè)坩鍋聯(lián)接到多條傳導(dǎo)通道上，并且然后聯(lián)接到處于直線構(gòu)造的多個(gè)噴嘴上。

圖3B示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的立體橫截面圖，該直線淀積源包括單個(gè)坩鍋，該單個(gè)坩鍋聯(lián)接到單條傳導(dǎo)通道上，并且然后聯(lián)接到處于直線構(gòu)造的多個(gè)噴嘴上。

圖4示出用于本發(fā)明的直線淀積源的坩鍋的立體橫截面圖，該坩鍋由兩種類型的材料形成。

圖5A示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的一部分的立體俯視圖，該圖示出三條傳導(dǎo)通道，這三條傳導(dǎo)通道聯(lián)接到在外殼中的三個(gè)坩鍋上。

圖5B示出根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的一部分的立體俯視圖，該圖示出單條傳導(dǎo)通道，該單條傳導(dǎo)通道聯(lián)接到在外殼中的三個(gè)坩鍋上。

圖6A是用于本發(fā)明的直線淀積源的電阻坩鍋加熱器的一部分的立體圖，該圖示出加熱器的內(nèi)側(cè)和三個(gè)側(cè)部，在該處定位坩鍋。

圖6B是多個(gè)坩鍋加熱器之一的外側(cè)的立體圖，這些坩鍋加熱器用來(lái)加熱多個(gè)坩鍋中的每一個(gè)坩鍋。

圖7A是根據(jù)本發(fā)明的直線淀積源的側(cè)視圖，該圖示出傳導(dǎo)通道加熱器，這些傳導(dǎo)通道加熱器用來(lái)加熱多條傳導(dǎo)通道。

圖7B是桿的立體圖，這些桿包括傳導(dǎo)通道加熱器。