[發明專利]真空排氣裝置、真空排氣方法及基板處理裝置

有效

• 申請號: 201080059663.0
• 申請日: 2010-11-29
• 公開（公告）號: CN102713287A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 井上俊哉;橋本建治;山本昌弘
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: F04B37/16
• 分類號: F04B37/16;F04C25/02
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 黃永杰

1.一種真空排氣裝置，其特征在于，

所述真空排氣裝置具備：

多個真空泵，其相對于處理室并列連接，并使所述處理室成為規定的真空狀態；

排氣集合管，其連通所述真空泵的排氣側；

輔助配管，其對至少一個所述真空泵的進氣側和所述排氣集合管進行連接；和

切換單元，其將所述至少一個所述真空泵的進氣側的流路切換到所述處理室側或所述輔助配管側。

2.如權利要求1所述的真空排氣裝置，其特征在于，

所述至少一個所述真空泵通過進氣管與所述處理室連接，

對于所述切換單元，

在所述進氣管上設置對所述進氣管的流路進行開閉的排氣調整閥，

在所述排氣調整閥的下游側的所述進氣管上連接所述輔助配管，

在所述輔助配管上設置根據所述排氣調整閥的開閉而對所述輔助配管的流路進行閉開的輔助排氣閥。

3.如權利要求1或2所述的真空排氣裝置，其特征在于，

所述至少一個真空泵以外的所述真空泵的排氣側通過排氣管與所述排氣集合管連接，

在所述排氣管上，設置與所述輔助排氣閥的開閉連動地進行開閉的真空維持閥。

4.如權利要求1~3中任意一項所述的真空排氣裝置，其特征在于，

所述真空排氣裝置具備對所述至少一個真空泵的排氣側進行減壓的減壓單元。

5.如權利要求1~4中任意一項所述的真空排氣裝置，其特征在于，

所述真空排氣裝置具備對所述處理室側的壓力狀態進行檢測的壓力檢測單元，

所述切換單元根據所述壓力檢測單元的檢測信息進行動作。

6.一種真空排氣方法，其特征在于，

在通過并列配置的多個真空泵使處理室成為規定的真空狀態之際，在用于維持所述處理室的真空壓的所述真空泵的運轉時，通過至少一個所述真空泵，進行其他所述真空泵的排氣側的大氣開放容積部的排氣。

7.如權利要求6所述的真空排氣方法，其特征在于，

在用于維持所述處理室的真空壓的所述真空泵的運轉時，其他所述真空泵以比使所述處理室成為規定的真空狀態的運轉時的轉速低的轉速運轉。

8.如權利要求7所述的真空排氣方法，其特征在于，

用于維持所述處理室的真空壓的所述真空泵的運轉時的其他所述真空泵的轉速，為能在規定的恢復時間內使所述處理室成為規定的真空狀態的轉速。

9.一種基板處理裝置，其特征在于，

所述基板處理裝置具備供基板搬入并進行規定的處理的基板處理室，使權利要求1~權利要求5中任意一項所述的真空排氣裝置的所述多個真空泵與所述基板處理室并列連接。

10.如權利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述基板處理裝置具備供來自所述基板處理裝置的基板搬入并進行規定的處理的第2基板處理室，

在所述第2基板處理室連接第2真空泵，

使所述真空泵之一與所述第2真空泵的進氣側并列連接，

在所述真空泵之一和所述第2真空泵的連接部具備流路選擇單元。

11.如權利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述第2真空泵的排氣側與所述排氣集合管連通，

所述第2真空泵的排氣側的流體利用至少一個所述真空泵、經由所述排氣集合管排出。