[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080058540.5 | 申請日: | 2010-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN102687264A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 田丸雅規(guī);中西和幸;西村英敏 | 申請(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/82 | 分類號: | H01L21/82;H01L21/3205;H01L21/822;H01L21/8238;H01L23/52;H01L27/04;H01L27/092 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置,在第1方向上排列配置了多個單元列,在每個單元列中,在所述第1方向延伸的多個柵極被排列配置在與所述第1方向正交的第2方向上,
所述多個單元列分別具備在所述柵極的下方形成且分別在所述第2方向上延伸的第1導(dǎo)電型阱區(qū)域及第2導(dǎo)電型阱區(qū)域,
作為所述多個單元列之一的第1單元列具備:
第1阱電位供給區(qū)域,是在所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域中注入導(dǎo)電型與所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域相同的雜質(zhì)而形成的;
第1及第2相鄰柵極,其分別配置在所述第1阱電位供給區(qū)域的所述第2方向上的兩側(cè);
第3相鄰柵極,在所述第1阱電位供給區(qū)域的相反側(cè)相鄰地配置了該第3相鄰柵極;和
第4相鄰柵極,在所述第1阱電位供給區(qū)域的相反側(cè)相鄰地配置了該第4相鄰柵極,
在所述第2方向上以同一間距配置所述第1~第4相鄰柵極,并且,
所述多個單元列之中的、在所述第1方向上與所述第1單元列相鄰的第1相鄰單元列具有4根柵極,該4根柵極在所述第1方向上分別與所述第1~第4相鄰柵極對置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1及第2相鄰柵極之中的至少任一方被連接成與所述第1相鄰單元列中的對置于該相鄰柵極的柵極成為一體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1及第2相鄰柵極是虛擬柵極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
在所述第1相鄰柵極和所述第3相鄰柵極之間,形成注入導(dǎo)電型與所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域相同的雜質(zhì)而構(gòu)成的第2阱電位供給區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1及第2阱電位供給區(qū)域形成為一體。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1、第2及第3相鄰柵極是虛擬柵極。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1單元列中的所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域和所述第1相鄰單元列中的所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域在所述第1方向上相鄰,
所述第1相鄰單元列具備在所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域中注入導(dǎo)電型與所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域相同的雜質(zhì)而構(gòu)成的第3阱電位供給區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1單元列中的所述第1阱電位供給區(qū)域和所述第1相鄰單元列中的所述第3阱電位供給區(qū)域形成為一體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1~第4相鄰柵極跨過所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域與所述第2導(dǎo)電型阱區(qū)域之間的邊界而延伸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1~第4相鄰柵極在所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域與所述第2導(dǎo)電型阱區(qū)域的邊界處被分割。
11.一種半導(dǎo)體裝置,在第1方向上排列配置了多個單元列,在每個單元列中,在所述第1方向上延伸的多個柵極被排列配置在與所述第1方向正交的第2方向上,
所述多個單元列分別具有在所述柵極的下方形成且分別在所述第2方向上延伸的第1導(dǎo)電型阱區(qū)域及第2導(dǎo)電型阱區(qū)域,
作為所述多個單元列之一的第1單元列具備:
第1阱電位供給區(qū)域,是在所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域中注入導(dǎo)電型與所述第1導(dǎo)電型阱區(qū)域相同的雜質(zhì)而構(gòu)成的;和
第1柵極,其配置在所述第1阱電位供給區(qū)域之上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1柵極是虛擬柵極。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
所述第1柵極是活性晶體管的柵電極。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





