[發明專利]正型感光性樹脂組合物、由該組合物形成的固化膜及具有固化膜的元件有效
| 申請號: | 201080058514.2 | 申請日: | 2010-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN102667625A | 公開(公告)日: | 2012-09-12 |
| 發明(設計)人: | 藤原健典;內田圭一;谷垣勇剛;諏訪充史 | 申請(專利權)人: | 東麗株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/075 | 分類號: | G03F7/075;C08G77/04;C08G77/14;G03F7/022;G03F7/023 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感光性 樹脂 組合 形成 固化 具有 元件 | ||
技術領域
本發明涉及用于形成液晶顯示元件、有機EL顯示元件等的薄膜晶體管(TFT)基板用平坦化膜、觸摸面板傳感器元件等的保護具膜、絕緣膜、半導體元件的層間絕緣膜、固體攝像元件用平坦化膜、微透鏡陣列圖案、或光半導體元件等的光波導的芯材、包層材的感光性組合物,由該組合物形成的固化膜,以及具有該固化膜的元件。
背景技術
近年來,在液晶顯示器、有機EL顯示器等中,作為實現更加高精細、高分辨率的方法,已知提高顯示裝置的開口率的方法(參照專利文獻1)。這是能夠通過在TFT基板的上部設置透明的平坦化膜作為保護膜而使數據線與像素電極重疊,與現有技術相比提高開口率的方法。
作為這樣的TFT基板用平坦化膜的材料,為了具有高耐熱性、高透明性的特性并且確保TFT基板電極與ITO電極導通而需要形成50μm~數μm左右的孔圖案(hole?pattern),一般可使用正型感光性材料。作為代表性材料,已知在丙烯酸系樹脂中組合了重氮醌化合物的材料(參照專利文獻2、3、4)。
此外,最近,在液晶顯示器等中,采用了觸摸面板,但為了提高該觸摸面板的透明性、功能性,嘗試以作為透明電極部件的ITO的高透明性和高導電性為目的,進行更高溫度下的熱處理、制膜。與此相伴,對透明電極部件的保護膜、絕緣膜也要求對高溫處理的耐熱性。然而,丙烯酸系樹脂的耐熱性、耐化學性不充分,存在由于基板的高溫處理、透明電極等的高溫制膜、各種蝕刻藥液處理而使固化膜著色而透明性降低,或者由于高溫制膜中的脫氣而使電極的電導率降低這樣的問題。
此外,這些丙烯酸系材料一般由于靈敏度低因而生產性低,要求更高靈敏度的材料。此外,伴隨顯示器的進步,孔圖案等的開口尺寸也逐年微細化,也有時要求形成3μm以下的微細圖案,但上述丙烯酸系材料的分辨率不充分。
另一方面,作為具有高耐熱性、高透明性等特長的其它材料,已知聚硅氧烷,為了賦予正型的感光性而在其中組合了重氮醌化合物的材料(參照專利文獻5、6)是公知的。該材料的透明性高,即使通過基板的高溫處理,透明性也不會降低,可以獲得高透明的固化膜。然而,關于該材料,靈敏度、分辨率、耐化學性不能說是充分的,因此強烈要求更高靈敏度、高分辨率、高耐化學性的正型感光性材料。此外,使用了具有重氮醌結構的聚硅氧烷的正型硅氧烷材料(專利文獻7)是公知的。對于該材料,增加了用于將重氮醌并入聚合物結構中的工序,較復雜,而且具有透明性低這樣的課題。此外,組合了聚合物中具有酚式羥基的聚硅氧烷和重氮萘醌化合物的正型硅氧烷材料(專利文獻8)是公知的。對于該材料,增加了用于將酚并入聚合物結構中的工序,較復雜,而且具有透明性低這樣的課題。此外,為2層抗蝕劑用途,在元件中不殘存該硅氧烷固化膜。
因此,強烈要求使更高的透明性、靈敏度、分辨率、耐化學性全部得到滿足的可以簡便地制造的正型感光性材料。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開平9-152625號公報(權利要求1)
專利文獻2:日本特開2001-281853號公報(權利要求1)
專利文獻3:日本特開平5-165214號公報(權利要求1)
專利文獻4:日本特開2002-341521號公報(權利要求1)
專利文獻5:日本特開2006-178436號公報(權利要求1)
專利文獻6:日本特開2009-211033號公報(權利要求1)
專利文獻7:日本特開2007-233125號公報
專利文獻8:美國專利申請公開第2003/0211407號說明書
發明內容
發明所要解決的課題
本發明是基于上述那樣的情況而作出的,提供具有高耐熱性、高透明性的特長,并且能夠以高靈敏度形成高分辨率的圖案,而且耐化學性優異的正型感光性組合物。此外,本發明的其它目的是提供由上述的正型感光性組合物形成的TFT基板用平坦化膜、層間絕緣膜、觸摸面板用保護膜、絕緣膜、芯材、包層材等的固化膜,以及提供具有該固化膜的顯示元件、半導體元件、固體攝像元件、光波導等的元件。
用于解決課題的方法
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