[發明專利]曝光裝置

有效

• 申請號: 201080054737.1
• 申請日: 2010-11-10
• 公開（公告）號: CN102640058A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: 水村通伸;橋本和重;畑中誠
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 肖華

技術領域

本發明涉及一種通過光掩模對被保持在載物臺上的被曝光體照射曝光用光從而曝光形成規定的圖案的曝光裝置，具體來說，涉及一種能夠以高析像力對大面積的被曝光體的非周期性的圖案進行曝光的曝光裝置。

背景技術

這種的現有的曝光裝置是通過光掩模對以一定速度輸送的被曝光體間歇性地照射曝光用光從而在規定位置對光掩模的掩模圖案進行曝光的曝光裝置，其包括：第1攝像單元，該第1攝像單元被配設為對所述光掩模的曝光位置、或者相比該曝光位置位于所述被曝光體的輸送方向相反側的位置進行攝像，并具有在與所述輸送方向基本正交的方向上排列的多個受光元件；第2攝像單元，該第2攝像單元被配設為對所述光掩模的曝光位置、或者相比該曝光位置位于所述被曝光體的輸送方向相反側的位置進行攝像，并具有在與所述輸送方向基本平行的方向上排列的多個受光元件；使所述被曝光體以及光掩模在與所述輸送方向基本正交的方向上相對移動以對該光掩模的曝光位置進行補正的校準單元；控制單元，所述控制單元在通過所述第1攝像單元檢測到預先設置在所述被曝光體上的曝光位置補正用的第1基準位置時，根據該第1基準位置控制所述校準單元的驅動，在通過所述第2攝像單元檢測到預先設置在所述被曝光體上的曝光用光的照射時刻提取用的第2基準位置時，根據該第2基準位置控制所述曝光用光的照射時刻。（例如，參照專利文獻1）。

【現有技術文獻】

【專利文獻】

專利文獻1:日本專利特開2008－76709號公報

發明內容

發明要解決的課題

但是，關于這樣的現有的曝光裝置，在對被曝光體（基板）曝光具有周期性的圖案的情況下，只要一邊朝一個方向以一定的速度輸送基板一邊以規定周期控制曝光用光的照射時刻就可以容易地進行，但非周期性的圖案的曝光則比較困難。又，因為是使光掩模相向地靠近基板來進行曝光的曝光裝置，所以由于被照射在光掩模上的光源光的視角（平行光半角）的存在，基板上的圖案的像模糊不清，分辨率下降，恐怕不能曝光形成微細的圖案。

對于這樣的問題，能夠通過使用步進曝光裝置來處理，該步進曝光裝置利用成像透鏡將光掩模的像縮小投影在基板上進行曝光，但是存在這如下的問題，即在對例如1m以上見方的大面積的基板進行曝光的情況下，所使用的透鏡口徑與基板的大小相對應地變大，從而導致價格變高。

因此，本發明的目的在于提供一種解決這樣的問題點的、能夠以高析像力進行大面積的被曝光體的非周期性的圖案的曝光的曝光裝置。

解決課題的手段

為了達到上述目的，本發明的曝光裝置具有：光掩模，所述光掩模形成有與被曝光在被曝光體的表面上的曝光圖案相同形狀的掩膜圖案，所述被曝光體被保持在載物臺上；透鏡組裝體，所述透鏡組裝體被配設在所述光掩模和所述載物臺之間，將多個單元透鏡組排列在與所述光掩模以及被保持在所述載物臺上的被曝光體的表面平行的面內，所述單元透鏡組在所述光掩模的法線方向上配置多個凸透鏡而構成，以能夠將形成在所述光掩模上的掩膜圖案的等倍正立像成像在所述被曝光體表面上；移動單元，所述移動單元使得所述透鏡組裝體在與所述光掩模以及所述載物臺上的被曝光體的表面平行的面內移動。

基于這樣的構成，通過移動單元使得被配設在所述光掩模和所述載物臺之間的、在與光掩模以及被保持在載物臺上的被曝光體的面平行的面內排列有多個在光掩模的法線方向上配置多個凸透鏡而構成的單元透鏡組的透鏡組裝體在與光掩模以及載物臺平行的面內移動，利用所述透鏡組裝體將形成在光掩模上的掩膜圖案的等倍正立像成像在被保持在載物臺上的被曝光體表面，將規定的圖案曝光在被曝光體上。

又，所述透鏡組裝體在其移動方向上以規定間距設置多個透鏡列，所述透鏡列在與所述移動方向正交的方向上以規定間距排列多個所述單元透鏡組，且使相互相鄰的所述透鏡列的其中一個透鏡列在所述單元透鏡組的排列方向上位移規定量以使得順著所述移動方向看所述各透鏡列的各單元透鏡組的一部分重疊。由此，一邊移動如下構成的透鏡組裝體一邊將光掩模的掩膜圖案曝光在被曝光體上，即在透鏡組裝體的移動方向上以規定間距設置多個透鏡列，所述透鏡列在與所述移動方向正交的方向上以規定間距排列多個單元透鏡組，且使相互相鄰的所述透鏡列的其中一個透鏡列在所述單元透鏡組的排列方向上位移規定量以使得順著所述移動方向看所述各透鏡列的各單元透鏡組的一部分重疊。