[發(fā)明專(zhuān)利]曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080054737.1
• 申請(qǐng)日: 2010-11-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102640058A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-08-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 水村通伸;橋本和重;畑中誠(chéng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社V技術(shù)
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 上海市華誠(chéng)律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 肖華

1.一種曝光裝置，其特征在于，具有：

光掩模，所述光掩模形成有與被曝光在被曝光體的表面上的曝光圖案相同形狀的掩膜圖案，所述被曝光體被保持在載物臺(tái)上；

透鏡組裝體，所述透鏡組裝體被配設(shè)在所述光掩模和所述載物臺(tái)之間，將多個(gè)單元透鏡組排列在與所述光掩模以及被保持在所述載物臺(tái)上的被曝光體的表面平行的面內(nèi)，所述單元透鏡組是在所述光掩模的法線方向上配置多個(gè)凸透鏡而構(gòu)成的，以能夠?qū)⑿纬稍谒龉庋谀Ｉ系难谀D案的等倍正立像成像在所述被曝光體表面上；和

移動(dòng)單元，所述移動(dòng)單元使得所述透鏡組裝體在與所述光掩模以及所述載物臺(tái)上的被曝光體的表面平行的面內(nèi)移動(dòng)。

2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述透鏡組裝體在其移動(dòng)方向上以規(guī)定間距設(shè)置多個(gè)透鏡列，所述透鏡列在與所述移動(dòng)方向正交的方向上以規(guī)定間距排列多個(gè)所述單元透鏡組，且使相互相鄰的所述透鏡列的其中一個(gè)透鏡列在所述單元透鏡組的排列方向上位移規(guī)定量以使得順著所述移動(dòng)方向看所述各透鏡列的各單元透鏡組的一部分重疊。

3.如權(quán)利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，所述透鏡組裝體構(gòu)成為，與透明的基板的表面和背面相互對(duì)應(yīng)地形成有多個(gè)凸透鏡的第1、第2、第3以及第4透鏡陣列以使對(duì)應(yīng)的各凸透鏡的光軸一致的形態(tài)相重疊，且使得所述光掩模的掩膜圖案的中間倒立像在所述第2透鏡陣列和所述第3透鏡陣列之間成像。

4.如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述透鏡組裝體設(shè)有靠近位于所述第3透鏡陣列的光的行進(jìn)方向上游側(cè)的凸透鏡的表面的、具有規(guī)定形狀的開(kāi)口的第1光闌，將單元透鏡的曝光區(qū)域限制在透鏡的中央部。

5.如權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，所述第1光闌的開(kāi)口，在俯視時(shí)為矩形形狀的開(kāi)口中，為了使得順著所述透鏡組裝體的移動(dòng)方向看與相鄰的第1光闌的開(kāi)口的一部分重疊的部分的面積為該重疊部的整體面積的一半而形成將該矩形形狀的開(kāi)口的一部分遮光的形狀。

6.如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述透鏡組裝體設(shè)有靠近所述第4透鏡陣列的光的行進(jìn)方向上游側(cè)的透鏡表面的、限制光束直徑的第2光闌。

7.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述載物臺(tái)載置所述被曝光體且能夠向一個(gè)方向輸送，

所述移動(dòng)單元在所述載物臺(tái)的移動(dòng)為停止?fàn)顟B(tài)時(shí)使所述透鏡組裝體移動(dòng)。

8.如權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，在所述載物臺(tái)的上方、且相對(duì)于所述光掩模在所述被曝光體的輸送方向的相反側(cè)，還具有其他的光掩模，所述其他的光掩模在形成于透明基板的一個(gè)面上的遮光膜上，在與所述被曝光體的輸送方向正交的方向上以規(guī)定間隔至少排列一列地形成有多個(gè)其他的掩膜圖案，以規(guī)定的時(shí)間間隔對(duì)該其他的光掩模間歇性地照射光源光，以規(guī)定周期將所述其他的掩膜圖案曝光在以一定速度輸送過(guò)程中的所述被曝光體上。

9.如權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其特征在于，所述其他的光掩模，在形成于透明基板的與所述被曝光體側(cè)相反一側(cè)的表面上的遮光膜上，在所述被曝光體的輸送方向上先后形成由要求析像力不同的兩種類(lèi)的掩膜圖案所構(gòu)成的兩個(gè)掩膜圖案組，在所述被曝光體側(cè)的表面上形成有微透鏡，所述微透鏡與所述要求析像力不同的兩種類(lèi)的掩膜圖案中的要求析像力高的掩膜圖案相對(duì)應(yīng)地將該掩膜圖案縮小投影在所述被曝光體上。

10.如權(quán)利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，由所述要求析像力高的掩膜圖案構(gòu)成的掩膜圖案組具有在與所述被曝光體的輸送方向大致正交的方向上以規(guī)定間距將所述多個(gè)掩膜圖案排列成一直線狀而形成的多個(gè)掩膜圖案列，在所述多個(gè)掩膜圖案的所述排列方向上各自錯(cuò)開(kāi)規(guī)定尺寸地形成后續(xù)的掩膜圖案列，從而能夠利用由后續(xù)的掩膜圖案列形成的多個(gè)曝光圖案來(lái)補(bǔ)足由位于所述被曝光體的輸送方向最前側(cè)的掩膜圖案列形成的多個(gè)曝光圖案間的間隙。

11.如權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其特征在于，

所述被曝光體是顯示裝置的薄膜晶體管用基板，

所述其他的光掩模是在所述薄膜晶體管用基板的中央的顯示區(qū)域以規(guī)定周期對(duì)所述要求析像力不同的兩種類(lèi)的掩膜圖案進(jìn)行曝光的部件，

所述要求析像力不同的兩種類(lèi)的掩膜圖案中，要求析像力高的掩膜圖案是薄膜晶體管的電極布線用掩膜圖案，要求析像力低的掩膜圖案是對(duì)所述薄膜晶體管供給信號(hào)的信號(hào)線以及掃描線用掩膜圖案，

所述光掩模是在所述薄膜晶體管用基板的所述顯示區(qū)域的外側(cè)的區(qū)域設(shè)置與所述信號(hào)線或者掃描線連接的端子用掩膜圖案的部件。