[發明專利]光學薄膜的制造方法、光學薄膜、偏振板以及圖像顯示裝置

有效

• 申請號: 201080051681.4
• 申請日: 2010-11-30
• 公開（公告）號: CN102667534A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: 宮之脅伸;筱原誠司;橋本浩二;林祐輔;村上茂樹
• 申請（專利權）人: 大日本印刷株式會社
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;B05D1/34;B05D5/06;B32B7/02;B32B23/08;B32B27/20;B32B27/30;G02B1/11;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張寶榮

1.一種光學薄膜的制造方法，其特征為包含：

(i)準備透光性基材的工序；

(ii)準備含有第一粘合劑成分及第一溶劑、不含有高折射率微粒且粘度為3～100mPa·s的第一硬涂層用固化性樹脂組合物，以及含有平均粒徑1～100nm的高折射率微粒、第二粘合劑成分及第二溶劑且粘度為10～100mPa·s的第二硬涂層用固化性樹脂組合物的工序；

(iii)在所述透光性基材的一側，從所述透光性基材側開始，以使所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物及所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物鄰接，且所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物比所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物更靠近所述透光性基材側的方式進行同時涂布，來制作涂膜的工序；以及

(iv)對所述(iii)工序中得到的涂膜進行光照射使之固化，形成折射率傾斜硬涂層的工序。

2.如權利要求1所述的光學薄膜的制造方法，其中，

所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物及/或第二硬涂層用固化性樹脂組合物，還含有增粘劑。

3.如權利要求1所述的光學薄膜的制造方法，其中，

所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度與所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度之差的絕對值為30以下，所述粘度的單位是mPa·s。

4.如權利要求1所述的光學薄膜的制造方法，其中，

所述透光性基材為三乙酰纖維素基材，所述第一溶劑具有向所述三乙酰纖維素基材的浸透性。

5.如權利要求1所述的光學薄膜的制造方法，其中，

在所述(iv)工序之后，還包括(v)在所述折射率傾斜硬涂層上，直接或夾隔著高折射率層形成低折射率層的工序。

6.如權利要求5所述的光學薄膜的制造方法，其中，

固化形成所述低折射率層的低折射率層用組合物，含有中空二氧化硅微粒。

7.如權利要求5所述的光學薄膜的制造方法，其中，

固化形成所述低折射率層的低折射率層用組合物，含有由金屬氟化物及固化性氟樹脂所構成的組中選出的至少1種低折射率材料。

8.如權利要求7所述的光學薄膜的制造方法，其中，

固化形成所述低折射率層的低折射率層用組合物，不含中空二氧化硅微粒，而含有由金屬氟化物及固化性氟樹脂所構成的組中選出的至少1種低折射率材料。

9.如權利要求1所述的光學薄膜的制造方法，其中，

在所述(i)工序與(iii)工序之間，還包含(vi)在所述透光性基材的設置折射率傾斜硬涂層的面形成抗靜電層的工序。

10.一種光學薄膜，其特征為，是根據權利要求1～9中任一項所述的方法得到的。

11.一種光學薄膜，其特征在于，是在透光性基材的一側至少設置有折射率傾斜硬涂層的光學薄膜，其中，

所述折射率傾斜硬涂層含有平均粒徑1～100nm的高折射率微粒，

在所述折射率傾斜硬涂層中，在所述折射率傾斜硬涂層的膜厚方向上，所述高折射率微粒的存在量越靠近所述透光性基材側越少。

12.如權利要求11所述的光學薄膜，其中，

在所述折射率傾斜硬涂層中，從與所述透光性基材相反側的界面開始至所述折射率傾斜硬涂層膜厚的70％為止的區域中，存在所述高折射率微粒總量的90％以上。

13.如權利要求11所述的光學薄膜，其中，

所述折射率傾斜硬涂層中含有增粘劑。

14.如權利要求11所述的光學薄膜，其中，

所述透光性基材為三乙酰纖維素基材，構成所述折射率傾斜硬涂層的基質，在所述三乙酰纖維素基材的折射率傾斜硬涂層側的界面也存在。

15.如權利要求11所述的光學薄膜，其中，

在所述折射率傾斜硬涂層的與透光性基材相反側的面，還設置有低折射率層，或者從所述折射率傾斜硬涂層側開始還設置有高折射率層及低折射率層。

16.如權利要求15所述的光學薄膜，其中，

所述低折射率層含有中空二氧化硅微粒。

17.如權利要求15所述的光學薄膜，其中，

所述低折射率層含有由金屬氟化物及氟樹脂所構成的組中選出的至少1種低折射率成分。