[發(fā)明專利]太陽能電池及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080049288.1 | 申請日: | 2010-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN102598299A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李東根 | 申請(專利權)人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產(chǎn)權代理有限公司 11327 | 代理人: | 許向彤;林錦輝 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種太陽能電池及其制造方法。
背景技術
近來,隨著能量需求的增長,正在對將太陽能轉化為電能的太陽能電池進行研究。
具體地,已廣泛使用基于CIGS的電池,所述基于CIGS的電池是pn異質結設備,具有包括襯底、金屬后電極層、p型基于CIGS的光吸收層、高電阻緩沖層、n型透明電極層等的襯底結構。
各種類型的襯底都可以用作所述襯底,但是當襯底是撓性的時,在襯底被彎曲的情況下,導致在襯底上形成的金屬后電極層中產(chǎn)生裂縫的問題。
發(fā)明內容
技術問題
本發(fā)明一些方面的優(yōu)點在于,提供一種太陽能電池及其制造方法,所述太陽能電池能夠增加襯底和后電極之間的聯(lián)結力。
技術方案
根據(jù)本發(fā)明的太陽能電池包括:圖案層,布置在襯底上且包括不平整圖案;后電極,布置在所述圖案層上;光吸收層,布置在所述后電極上;緩沖層,布置在所述光吸收層上;以及前電極,布置在所述緩沖層上。
根據(jù)本發(fā)明的太陽能電池制造方法包括:在襯底上形成包括不平整圖案的圖案層;在所述圖案層上形成后電極;在所述后電極上形成光吸收層;在所述光吸收層上形成緩沖層;以及在所述緩沖層上形成前電極。
有益效果
根據(jù)實施例的太陽能電池及其制造方法可以在襯底上形成納米尺寸的不平整圖案,由此提高與形成在襯底上的后電極的聯(lián)結力。
具體地,當襯底是撓性的時,盡管襯底被彎曲,但是不會在襯底和后電極之間產(chǎn)生裂縫。
就是說,后電極還形成在不平整結構圖案的凹槽內部,以增加襯底和后電極之間的聯(lián)結力。
此外,光吸收層(其一部分與襯底相接觸)也與不平整結構圖案接觸,以增加光吸收層和襯底之間的聯(lián)結力。
附圖說明
圖1至11是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的太陽能電池制造方法的剖視圖。
具體實施方式
在實施例的描述中,當各個襯底、層、膜或電極等被表述為形成在其它襯底、層、膜或電極“上”或“下”時,“上”或“下”還表示一個組件“直接地”或“間接地(通過其它組件)”形成到另一組件上。此外,將基于附圖描述每個組件的“上”或“下”的標準。在附圖中,可以夸大地描繪每個組件的尺寸,并且不意味著實際應用該尺寸。
圖11是根據(jù)本發(fā)明實施例的太陽能電池的剖視圖。
如圖11所示,實施例的太陽能電池包括襯底100、圖案層170、后電極200、光吸收層300、緩沖層400和前電極500。
在此情形中,圖案層170包括不平整圖案150,可以在不平整圖案150中周期性地形成具有四角棱錐或正弦波形狀的彎曲部。
此外,如圖3所示,不平整圖案150包括凹槽110和突起120,凹槽的寬度為100-300nm,突起的寬度為100-200nm,凹槽和突起的高度可以為100-300nm。
通過不平整結構形成凹槽110和突起120,從而使得凹槽120具有從襯底100突起的形狀。
此外,凹槽110和突起120使得接觸面積可以擴大,可以增強襯底100和之后形成的后電極之間的結合。
具體地,當襯底100是撓性的時,盡管襯底100被彎曲,也可以通過圖案層170防止在后電極中產(chǎn)生裂縫。
此外,后電極還形成不平整圖案150的凹槽110內部,從而可以增加襯底100和后電極之間的結合力。
圖案層170可以由包含樹脂的材料形成,該樹脂為諸如環(huán)氧樹脂、環(huán)氧樹脂三聚氰胺、亞克力和聚氨酯樹脂的單一型或混合型樹脂。
下文中,將根據(jù)太陽能電池的制造過程更詳細地描述所述太陽能電池。
圖1至11是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的太陽能電池制造方法的剖視圖。
首先,如圖1所示,包括不平整圖案150的圖案層170形成在襯底100上。
襯底100使用玻璃也可以使用諸如氧化鋁的陶瓷襯底、不銹鋼和鈦襯底或聚合物襯底等作為其材料。
玻璃襯底可以使用鈉鈣玻璃,聚合物襯底可以使用PET(polyethylen?terephthalate,聚對苯二甲酸乙二醇酯)和聚酰亞胺。
此外,襯底100可以是剛性或撓性的。
在襯底100的表面上形成樹脂層之后,不平整圖案150可以在樹脂層中形成不平整圖案。
此時,如圖2所示,形成圖案的方法包括在襯底100上形成樹脂層,并且應用使用模具230的模制過程,同時應用UV硬化過程。
當在襯底100上涂覆樹脂層時,進行到旋轉涂布過程。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





