[發明專利]直列式成膜裝置、磁記錄介質的制造方法以及閘閥

無效

• 申請號: 201080047524.6
• 申請日: 2010-12-01
• 公開（公告）號: CN102597300A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 角田幸隆;上野諭
• 申請（專利權）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;F16K3/18;G11B5/85;G11B5/851
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 段承恩;劉蓉

技術領域

本發明涉及一邊在多個腔室之間依次輸送作為成膜對象的基板一邊進行成膜處理的直列式成膜裝置、使用該直列式成膜裝置的磁記錄介質的制造方法以及在該直列式成膜裝置的多個腔室之間進行通路的開閉的閘閥。

本申請基于2009年12月18日在日本申請的特愿2009-287679號主張優先權，在這里引用其內容。

背景技術

近年來，在使用于硬盤裝置等的磁記錄介質的領域，記錄密度的提高顯著，特別在最近，記錄密度以1年間1.5倍左右的驚人的速度不斷增長。

這樣的磁記錄介質具有例如在非磁性基板的雙面或者單面依次層疊有晶種膜(シ一ド膜)、基底膜、磁記錄膜、保護膜以及潤滑劑膜的構造，一般，使用一邊在多個腔室之間依次輸送被保持于載體的基板一邊進行成膜處理的直列式成膜裝置進行制造(例如，參照專利文獻1)。

具體地說，直列式成膜裝置具有將進行成膜處理的多個腔室經由閘閥連接的構造。另外，在各腔室內，在載體的輸送方向上并列設置有被支撐得圍繞水平軸旋轉自如的多個軸承，載體能夠在這多個軸承之上移動。

另一方面，載體具有多個支架，在這些支架上，設有：將基板配置于內側的孔部，和能夠彈性變形地安裝于該孔部的周圍的多個保持爪。而且，支架能夠一邊使基板的外周部與多個保持爪抵接一邊將被嵌入這些保持爪的內側的基板保持得裝卸自如。

另外，在直列式成膜裝置中，通過設置于各腔室之間的閘閥進行對載體通過的通路進行開閉的動作。具體地說，閘閥具有設有形成上述的通路的開口部的一對分隔壁與在這一對分隔壁之間被移動操作的閥體。而且，在該閘閥中，通過閥體通過氣缸等驅動機構向將通路切斷的方向移動、然后閥體向與一方的分隔壁接觸的方向傾斜移動的動作，由此能夠在成膜處理中將開口部封閉。另一方面，能夠通過與該動作相反的動作，在載體的輸送中將開口部開放。進而，這樣的閘閥在各腔室之間配設有2個，設置于另一方的分隔壁的開口部也能夠同樣進行開閉。

而且，在該直列式成膜裝置中，通過由閘閥將各腔室隔離、然后對腔室內減壓，能夠將各腔室內分別設為獨立的壓力條件而進行成膜處理。

磁記錄介質能夠使用這樣的直列式成膜裝置連續進行制造，在處理基板的操作時不會污染基板，進而能夠減少操作工序等而將制造工序高效化，提高產品成品率而提高磁記錄介質的生產性。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：特開2002-288888號公報

發明內容

發明要解決的問題

但是，在上述的直列式成膜裝置中，為了提高磁記錄介質的生產性，要求將閘閥進行的開閉動作高速化。然而，在以往的直列式成膜裝置中，通過提高閘閥的開閉速度，在閘閥上產生較大的振動。

具體地說，在以往的閘閥中，在上述閥體的驅動機構使用氣缸。在該情況下，能夠通過提高氣缸的驅動氣壓而提高閘閥的開閉速度，但會在閘閥上產生較大的振動。

在直列式成膜裝置中，通過伴隨著這樣的閘閥的高速開閉動作的振動，會導致閘閥的壽命下降。另外，通過伴隨著這樣的高速開閉動作的磨損的產生，腔室內會被污染。進而，在通過伴隨著這樣的高速開閉動作的振動、在腔室內飛舞的灰塵附著于基板、由于該振動使得基板從所述支架脫落或者通過與所述保持爪的摩擦而損傷基板時，會導致所制造的磁記錄介質的品質下降。

本發明是鑒于這樣的以往的情況而提出的，其目的在于提供能夠一邊抑制伴隨著閘閥的開閉動作的振動的產生，一邊高速進行該閘閥的開閉動作的直列式成膜裝置、使用這樣的直列式成膜裝置的磁記錄介質的制造方法以及適于使用于這樣的直列式成膜裝置的閘閥。

用于解決課題的方案

本發明提供下面的技術方案。

(1)一種直列式成膜裝置，其特征在于，具備：

進行成膜處理的多個腔室；

載體，其在所述多個腔室內保持作為成膜對象的基板；

輸送機構，其在所述多個腔室之間依次輸送所述載體；和

閘閥，其設置于所述多個腔室之間，對所述載體所通過的通路進行開閉；

所述閘閥具有：設有形成所述通路的開口部的一對分隔壁；在所述一對分隔壁之間被移動操作的閥體；和在將所述開口部封閉的位置與將所述開口部開放的位置之間驅動所述閥體的驅動機構；

所述驅動機構是氣缸機構，具有：連接于所述閥體的活塞；配置有所述活塞的缸；連接于所述缸內的第1空間的第1閥機構；和連接于所述缸內的第2空間的第2閥機構；