[發明專利]涂覆基材的方法

無效

• 申請號: 201080045703.6
• 申請日: 2010-09-27
• 公開（公告）號: CN102712999A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: D·伯雷羅;E·瓦拉特-薩維恩;J·斯德恩豪瑟;U·克羅爾;J·邁耶
• 申請（專利權）人: 歐瑞康太陽能(處貝區市)公司
• 主分類號: C23C16/02
• 分類號: C23C16/02;C23C16/40;C23C14/02;C23C14/08;H01L31/0224;H01L31/0236;C23C30/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陸嘉

1.一種在基材上涂覆氧化鋅膜的方法，該方法包含以下步驟：

提供一具有至少一實質上平坦表面的基材；

將至少部分的該表面進行一等離子刻蝕工藝；

在該經刻蝕的表面上沉積一層，該層包含氧化鋅。

2.如前述權利要求的方法，其中使用一玻璃基材。

3.如前述權利要求中任一項的方法，其中使用一六氟化硫與氧比例為5/1的混合物的等離子。

4.如前述權利要求中任一項的方法，其中在該等離子刻蝕工藝中所使用的功率為1瓦/平方厘米。

5.如前述權利要求中任一項的方法，其中在該刻蝕工藝期間所使用的壓力為30毫托。

6.如前述權利要求中任一項的方法，其中該刻蝕的時間持續30分鐘。

7.如前述權利要求中任一項的方法，其中氧化鋅以低壓氣相沉積法沉積。

8.如前述權利要求中任一項的方法，其中氧化鋅摻雜有硼。

9.一種太陽能電池，其包含一根據前述權利要求中任一項的方法涂覆有氧化鋅的基材。

10.如權利要求9的太陽能電池，其中該氧化鋅涂層的導電度為14.5歐姆-平方(Ohm-square)或更低。