[發明專利]具有受控晶態結構的電解工藝電極有效
| 申請號： | 201080042171.0 | 申請日： | 2010-09-23 |
| 公開（公告）號： | CN102575363A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | C·厄戈赫;S·莫拉;A·L·安托齊 | 申請（專利權）人： | 德諾拉工業有限公司 |
| 主分類號： | C25B11/04 | 分類號： | C25B11/04 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 李躍龍 |
| 地址： | 意大*** | 國省代碼： | 意大利;IT |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 受控 晶態 結構 電解 工藝 電極 | ||
【權利要求書】：
1.用于析氫的電極，包含具有表層催化涂層的金屬基材，該催化涂層含有金屬或氧化物形式的釕微晶，所述微晶具有1-10nm的尺寸，而標準差不高于0.5nm。
2.根據權利要求1的電極，包含中間涂層，該中間涂層包含置于所述金屬基材和所述催化涂層之間的RuO2。
3.根據權利要求2的電極，其中所述催化涂層具有1-5g/m2的釕的比負載，且所述中間涂層具有5-12g/m2的釕的比負載。
4.根據上述任一權利要求所述的電極，其中所述微晶尺寸是1-5nm。
5.根據上述任一權利要求所述的電極，其中所述金屬基材由鎳制成。
6.根據上述任一權利要求所述的電極，其中所述釕微晶是非化學計量比的氧化物的形式。
7.生產根據權利要求1-6中任一項的電極的方法，包括從釕靶材通過化學或物理氣相沉積技術沉積所述催化涂層。
8.根據權利要求7的方法，其中所述物理氣相沉積包括用反應氣體同時氧化所述釕。
9.根據權利要求7或8的方法，其中在通過化學或物理氣相沉積進行催化涂層的所述沉積之前是通過含有釕鹽的水溶液的熱分解沉積RuO2中間涂層。
10.根據權利要求7或8的方法，在通過化學或物理氣相沉積進行催化涂層的所述沉積之前是通過電鍍技術沉積RuO2中間涂層。
11.根據權利要求1-6中任一項的電極在電解工藝中用于陰極析氫的用途。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于德諾拉工業有限公司，未經德諾拉工業有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080042171.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：抗酸結露腐蝕過濾材料及其制作工藝
- 下一篇：電子郵件信任服務
