[發明專利]成型體制造裝置、成型體的制造方法以及成型體

有效

• 申請號: 201080038107.5
• 申請日: 2010-07-09
• 公開（公告）號: CN102481711A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 廣兼大介;佐藤明治;山崎正美
• 申請（專利權）人: 住友電木株式會社
• 主分類號: B29C43/36
• 分類號: B29C43/36;B29C33/58;B29C43/02;B29C43/50
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 金世煜;苗堃

1.一種成型體制造裝置，其特征在于，通過將成型材料壓縮成型而制造成型體，具有：

成型模，具備填充有所述成型材料的、沿上下方向開口的腔；

上沖床，具備從所述腔的上端側插入所述腔內的、可沿上下方向移動的上沖床面；

下沖床，具備從所述腔的下端側插入所述腔內的、可沿上下方向移動的下沖床面；及

脫模劑噴射構件，至少具備一個能向所述上沖床面噴射脫模劑且能向所述下沖床面噴射脫模劑的噴嘴孔，

所述脫模劑噴射構件為如下構成：在向所述腔內填充所述成型材料之前，在所述上沖床位于所述腔的上端開口面的上方的狀態下，向所述上沖床面噴射脫模劑，從而將脫模劑涂布于所述上沖床面，并且在所述下沖床面在所述腔內位于所述腔的上端開口面的下方的狀態下，向所述下沖床面噴射脫模劑，從而將脫模劑分別涂布于所述下沖床面和在所述下沖床面的上側露出的所述腔的內周面。

2.如權利要求1所述的成型體制造裝置，其中，所述脫模劑噴射構件具備上噴嘴孔和下噴嘴孔作為所述噴嘴孔，其中，所述上噴嘴孔向上方噴射脫模劑，所述下噴嘴孔以與該上噴嘴孔分體的方式設置且向下方噴射所述脫模劑。

3.如權利要求2所述的成型體制造裝置，其中，所述脫模劑噴射構件為如下構成：可獨立地改變所述上噴嘴孔和所述下噴嘴孔的位置和/或姿勢。

4.如權利要求1所述的成型體制造裝置，其中，所述脫模劑噴射構件為如下構成：可將由所述噴嘴孔的脫模劑噴射方向在上方和下方進行切換。

5.如權利要求1～4中任一項所述的成型體制造裝置，其中，所述脫模劑噴射構件為如下構成：可上下移動所述噴嘴。

6.如權利要求1～5中任一項所述的成型體制造裝置，其中，所述脫模劑噴射構件為如下構成：可改變所述噴嘴的姿勢。

7.如權利要求1～6中任一項所述的成型體制造裝置，其中，在將利用所述脫模劑噴射構件噴射脫模劑時所述下沖床面與所述腔的上端開口面之間的距離設為A，將利用所述上沖床面和所述下沖床面對所述腔內的所述成型材料進行壓縮成型時所述下沖床面與所述腔的上端開口面之間的距離設為B時，A/B為0.5～1.5。

8.如權利要求1～7中任一項所述的成型體制造裝置，其中，在所述上沖床面、所述下沖床面以及所述腔的內周面涂布的脫模劑的平均厚度分別為0.001～50μm。

9.如權利要求1～8中任一項所述的成型體制造裝置，其中，所述成型材料呈粉末狀且包含樹脂材料。

10.如權利要求9所述的成型體制造裝置，其中，所述樹脂材料為環氧系樹脂材料。

11.如權利要求1～9中任一項所述的成型體制造裝置，其中，所述脫模劑包含硅酮系脫模劑。

12.一種成型體的制造方法，其特征在于，使用權利要求1～11中任一項所述的成型體制造裝置而制造成型體，具有：

涂布工序，在所述上沖床位于所述腔的上端開口面的上方的狀態下，向所述上沖床面噴射脫模劑，從而將脫模劑涂布于所述上沖床面，并且在所述下沖床面在所述腔內位于所述腔的上端開口面的下方的狀態下，向所述下沖床面噴射脫模劑，從而將脫模劑分別涂布于所述下沖床面和在所述下沖床面的上側露出的所述腔的內周面；

填充工序，將所述成型材料填充于所述腔內；以及

成型工序，將填充于所述腔內的所述成型材料用所述下沖床和所述上沖床進行壓縮成型。

13.一種成型體，其特征在于，是使用權利要求1～11中任一項所述的成型體制造裝置而制造的。