[發明專利]氧化鋯燒結體和氧化鋯燒結體的燒結用混合體、燒結前成型體以及燒結前假燒體

有效

• 申請號: 201080037193.8
• 申請日: 2010-08-20
• 公開（公告）號: CN102482162A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 伊藤承央;山田芳久;稻田博;坂清子
• 申請（專利權）人: 株式會社則武
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 段承恩;陳海紅

技術領域

[對于相關申請的記載]

本發明基于日本國專利申請：專利申請2009-192287號(2009年8月21日提出申請)要求優先權，引用相同申請的全部記載內容納入記載到本說明書中。

本發明涉及氧化鋯燒結體。另外，本發明涉及氧化鋯燒結體的燒結用混合體、燒結前成型體和燒結前假燒體。

背景技術

氧化鋯(IV)(ZrO₂)(以下，稱為「氧化鋯」)存在多型，氧化鋯在多型間發生相轉變。例如，正方晶的氧化鋯向單斜晶相轉變。因此，由于即使利用氧化鋯單體制作燒結體，晶體結構也因該相轉變而被破壞，因此氧化鋯單體的燒結體具有不能夠確保作為制品的充分強度的缺點。另外，氧化鋯單體的燒結體由于由相轉變引起的體積變化，也有燒結體的尺寸變化的缺點。

因此，作為穩定化劑向氧化鋯添加氧化鈣、氧化鎂、氧化釔、氧化鈰等的氧化物，抑制了相轉變的產生的穩定化氧化鋯(Stabilized?Zirconia)和部分穩定化氧化鋯(PSZ；Partially?Stabilized?Zirconia)被利用。特別是部分穩定化氧化鋯是具有高強度、高韌性的優異的特性的陶瓷，部分穩定化氧化鋯的燒結體在例如牙的治療中使用的補綴物、工具等的各種用途中被使用。

但是，部分穩定化氧化鋯不過是部分地穩定化，因此長期穩定性的問題沒有被解決。例如，部分穩定化氧化鋯燒結體在水分存在下、加熱到約200℃的狀態下，發生從正方晶向單斜晶的相轉變，由此部分穩定化氧化鋯燒結體的強度劣化(以下，將其稱為「低溫劣化」)。因此，抑制低溫劣化的氧化鋯燒結體的制造技術正在開發(例如，參照專利文獻1和專利文獻2)。

在專利文獻1和專利文獻2涉及的背景技術中，使用平均粒徑為0.5μm以下的部分穩定化氧化鋯微粉末，在1200℃～1400℃下使氧化鋯微粉末燒結，制造了氧化鋯燒結體。

另外，專利文獻3曾公開了一種用于制造框架材料的牙科加工用塊，其在完全燒結后切削和磨削加工容易，并且具有能夠適用于多數牙缺損的牙橋的彎曲強度。專利文獻3所述的牙科加工用塊，是以氧化鋯、氧化鋁、富鋁紅柱石和尖晶石的至少1種作為主材料的金屬氧化物的完全的燒結體，相對于金屬氧化物100質量份，含有作為結晶體的1質量份～23質量份的磷酸鑭和/或磷酸鋁。

在專利文獻4和非專利文獻1涉及的背景技術中，為了得到不產生低溫劣化現象的氧化鋯燒結體，在含有Y₂O₃等的氧化鋯材料的未燒成成型體的表面涂布了含有Y等的化合物的溶液后，在1300～1800℃下燒成，由此制造了氧化鋯燒結體。

現有技術文獻

專利文獻1：日本特開2001-80962號公報

專利文獻2：日本特開2007-332026號公報

專利文獻3：日本特開2009-23850號公報

專利文獻4：日本特開平3-115166號公報

非專利文獻1：山本泰次、加計一郎、「Y-TZP表面改質による耐熱劣化性の向上」、氧化鋯陶瓷13·14、內田老鶴圃、1998年、147-163頁

發明內容

上述專利文獻1～4和非專利文獻1的全部公開內容將其引用編入記載到本說明書中。

以下的分析由本發明的觀點給予。

較多地含有從正方晶相轉變成的單斜晶的氧化鋯燒結體和從正方晶向單斜晶的相轉變的進行快的氧化鋯燒結體，不能夠確保充分的強度，有例如破損的危險性，因此不能夠確保作為工業制品(例如牙科用補綴物)的高的可靠性。

在專利文獻1和專利文獻2所述的背景技術中，使部分穩定化氧化鋯粒子非常微細以使其容易燒結，在1200℃～1400℃的低溫下燒結由此得到氧化鋯燒結體。但是，為了提高氧化鋯燒結體的強度和尺寸穩定性，要求在更高的溫度下進行燒結。

因此，如果為了提高氧化鋯燒結體的強度，在高溫(例如超過1400℃的溫度)下燒結部分穩定化氧化鋯粒子，則即使使用如專利文獻1和專利文獻2所述那樣的微細的部分穩定化氧化鋯粒子原料，該燒結體也成為低溫劣化容易進行的燒結體。這樣的燒結體在強度維持和制品壽命的觀點上存在問題。此外，如果相轉變進行，則發生尺寸變化，因此不能夠用于要求高精度的制品。

另外，在專利文獻1和專利文獻2所述的背景技術中，部分穩定化氧化鋯粒子的限定的粒徑成為燒結體的制作的制約，并且為了確認燒結體的可靠性，在燒結體制作之前必須測定原料粒子的粒徑。