[發明專利]口腔正畸支架的表面鍍膜方法

有效

• 申請號: 201080034027.2
• 申請日: 2010-07-19
• 公開（公告）號: CN102470191A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發明（設計）人: 申雨錫
• 申請（專利權）人: HUBIT株式會社
• 主分類號: A61L27/30
• 分類號: A61L27/30;A61C7/14
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

技術領域

本發明涉及口腔正畸支架，更具體地涉及口腔正畸支架的表面鍍膜方法。

背景技術

口腔正畸是對位置不當的牙齒進行矯正的工作，包括矯正有害于齒列的牙齒周圍組織的異常或矯正整體牙齒或者咬合的異常、上顎和下顎的前突癥等所謂的錯位咬合。

通常的口腔正畸方法區分為：將口腔正畸支架放置在牙齒的內側，使其與舌頭接觸的舌側矯正方法，和將口腔正畸支架放置在牙齒的外側，使其與嘴唇接觸的內側矯正方法，最近由于美觀的需要，舌側矯正方法備受歡迎，但因治療效果及矯正完成度方面的界限性，在原則上比起舌側矯正方法更傾向于施行內側矯正方法。

作為參照，圖1中顯示將口腔正畸支架100放置在牙齒的外側，使其與嘴唇相接觸的內側矯正方法。

如圖1的部分放大圖所示，通常的口腔正畸支架100可使用金屬、陶瓷、樹脂等以各種形狀制作，并且不管任何形狀，基本上都是背面110起到直接粘合到牙齒的粘合面的作用，背面110的反側外面形成用于插入將多個支架100相互連接的口腔正畸金屬線200的槽120。

如果要使用此類口腔正畸支架100進行口腔正畸，醫師首先在欲矯正的牙齒表面的一定部位涂抹粘合劑，之后在此粘合劑完全凝固之前將支架100的整個粘合面110粘貼在涂抹粘合劑的牙齒表面，然后為了使金屬線200便于插入到槽120，整齊排列支架100的位置并等待粘合劑完全凝固。

之后，待上述粘合劑完全凝固時，醫師將金屬線200插入到形成于粘合到牙齒的多個支架100的外面的槽120，并將金屬線200的兩端支撐固定在固定到臼齒等的支撐部件上，從而完成口腔正畸支架100的安裝。

完成如上述的多個支架100的安裝后，此刻插入到多個支架100的槽120的金屬線200開始向牙齒施加口腔正畸所需的張力(tension)。

發明內容

發明需要解決的技術課題

并且，插入到上述多個支架100的槽120的金屬線200對牙齒施加口腔正畸所需的張力(tension)的期間，摩擦力將作用于支架100上，通常用金屬制作的支架100比用陶瓷或樹脂制作的支架100，對金屬線200的摩擦力相對地小一些。

從而，插入到由陶瓷或樹脂制作的支架100的槽120的金屬線200對牙齒施加口腔正畸所需的張力(tension)，以便按醫師所需的方向矯正牙齒的期間，過度的摩擦力起到障礙的作用，而使治療期間不必要地延長，或者增加疼痛、提高治療費用等，并且因摩擦阻抗，將緩慢老化的金屬線200插入到由陶瓷或樹脂制作的支架100的槽120中，并對牙齒施加口腔正畸所需要的張力(tension)，由于摩擦力，由陶瓷或樹脂制作的支架100的表面容易損傷，其結果是矯正期間中途需要更換支架100，因此延遲口腔正畸。

本發明為了解決上述的現有問題，目的為提供一種口腔正畸支架的表面鍍膜方法，插入到由陶瓷制作的支架的槽的金屬線對牙齒施加口腔正畸所需要的張力(tension)期間，為了將摩擦力最小化而增加表面硬度和耐久性，在由陶瓷制作的支架的表面形成特定厚度的鈦鍍膜層。

本發明的另一目的為提供一種口腔正畸支架的表面鍍膜方法，在由上述陶瓷制作的支架的表面形成厚度的鈦鍍膜層。

本發明的技術解決方案在于

為了達到上述目的，根據本發明的口腔正畸支架的表面鍍膜方法，其特征在于，包括：第一過程和第二過程，上述第一過程清洗口腔正畸支架而去除其表面異物，該口腔正畸支架是對陶瓷進行磨工工作，或燒結成型、注塑成型、壓力加工而制作的，上述口腔正畸支架的背面起到直接粘合到牙齒的粘合面的作用，并在背面的反面外側形成有用于插入將多個支架進行連接的口腔正畸金屬線的槽；

上述第二過程是使用通過空心陰極放電(Hollow?Cathode?Discharge)方法產生電子束以使鈦電離為蒸鍍粒子的離子鍍(ion?plating)裝置，在由去除其表面異物的陶瓷制作的支架的表面形成用于減少與上述金屬線之間的摩擦力的厚度的鈦鍍膜層。

根據本發明的口腔正畸支架的表面鍍膜方法，其特征在于，上述第一過程中，首先使用堿性清洗劑或超聲波清洗器將由陶瓷制作的支架的表面異物清除之后，緊接著用水將上述支架進行清洗，最后使用酒精或丙酮將上述支架的表面異物徹底清除，并進行干燥。

根據本發明的口腔正畸支架的表面鍍膜方法，其特征在于，上述第二過程包括：第一步驟，在設置于上述離子鍍裝置的腔體內部并傳遞接收電動機(M)的旋轉力而向一定角度旋轉的支架座上固定用于鍍膜作業的多個支架，并且在收納作為鍍膜物質的鈦(Ti)的靶電極里收納鈦(Ti)；