[發(fā)明專利]對(duì)基底進(jìn)行感光成像的方法和設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080032175.0
• 申請(qǐng)日: 2010-05-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102460306A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丹尼爾·J·泰斯;利文特·伯耶克勒;杰弗里·H·托奇;大衛(wèi)·L·霍費(fèi)爾特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 梁曉廣;關(guān)兆輝

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明整體涉及用于感光成像的設(shè)備和方法以及由此制備的制品。

背景技術(shù)

常規(guī)卷對(duì)卷平版印刷系統(tǒng)常常使用“分步重復(fù)”索引(indexing)來(lái)將具有感光涂層或?qū)雍衔锏幕讕У狡毓鈪^(qū)域。掩模(也稱作“光具(phototool)”)具有通常為完整大小的曝光區(qū)域的圖像，當(dāng)基底被靜止固定于真空模具上時(shí)，利用廣譜紫外光源和/或可見(jiàn)光源同時(shí)對(duì)完整區(qū)域曝光。為了形成長(zhǎng)電路，電路必須完全進(jìn)入曝光區(qū)域內(nèi)，或者通過(guò)曝光循環(huán)的多次分步或索引來(lái)形成。這兩種方法均導(dǎo)致形成比曝光區(qū)域長(zhǎng)的電路的工藝。

形成長(zhǎng)電路的一種常規(guī)方法是按照契合曝光區(qū)域的螺線型圖案來(lái)曝光電路。隨后將這種螺線型電路折疊成線性導(dǎo)體帶。這種折疊電路設(shè)計(jì)的一個(gè)問(wèn)題是所得周期性厚的橫截面，所述橫截面減少了導(dǎo)管或其它裝置中能夠包括的導(dǎo)電軌跡的數(shù)量。

形成長(zhǎng)電路的第二種常規(guī)方法涉及多步方法，其中代表長(zhǎng)電路的部分的多個(gè)掩模衍生圖像可接合在一起。此類長(zhǎng)電路是多步曝光的結(jié)果，這會(huì)導(dǎo)致未對(duì)準(zhǔn)誤差。這種未對(duì)準(zhǔn)通常引起導(dǎo)電軌跡中的窄帶，從而在電路中產(chǎn)生熱點(diǎn)或可熔連接。

發(fā)明內(nèi)容

在一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種方法，包括：

提供基底，所述基底包括支撐感光材料層的載體；

提供掩模，所述掩模包括圖像，所述圖像包括鄰接的第一、第二和第三圖像部分；并且順序地：

i)將光束引導(dǎo)到所述掩模上，使得在所述基底以第二速率沿著第二方向前進(jìn)經(jīng)過(guò)曝光區(qū)的同時(shí)，所述光束以第一速率沿著第一方向掃描所述第一圖像部分，并且隨后入射在所述曝光區(qū)處的所述感光材料層上；

ii)將所述光束引導(dǎo)到所述掩模上，使得在所述基底以第四速率沿著所述第二方向前進(jìn)經(jīng)過(guò)所述曝光區(qū)的同時(shí)，所述光束以第三速率入射在所述第二圖像部分上，并且隨后入射在所述曝光區(qū)中的所述感光材料層上；

iii)將所述光束引導(dǎo)到所述掩模上，使得在所述基底以第六速率沿著所述第二方向前進(jìn)經(jīng)過(guò)所述曝光區(qū)的同時(shí)，所述光束以第五速率沿著所述第一方向掃描所述第三圖像部分，并且隨后入射在所述曝光區(qū)處的所述感光材料層上，其中所述第一速率和所述第五速率大于所述第三速率。

在一些實(shí)施例中，所述第一方向是線性的。在一些實(shí)施例中，所述第一速率等于所述第五速率，并且其中所述第二速率、所述第四速率和所述第六速率相等。在一些實(shí)施例中，所述第一速率與所述第二速率成比例。在一些實(shí)施例中，所述第一速率等于所述第二速率。在一些實(shí)施例中，所述第三速率為零。

在一些實(shí)施例中，所述基底在所述曝光區(qū)中時(shí)保持與輥接觸。在一些實(shí)施例中，所述基底在所述曝光區(qū)中保持平的構(gòu)型。在一些實(shí)施例中，所述感光材料包括光致抗蝕劑。在一些實(shí)施例中，所述光束穿過(guò)所述掩模。在一些實(shí)施例中，所述光束的一部分被所述掩模反射，并被引導(dǎo)到所述感光材料上。在一些實(shí)施例中，所述光束形成薄片狀，并被引導(dǎo)到所述感光材料上。在一些實(shí)施例中，所述光束成光柵掃描。

在一些實(shí)施例中，所述基底包括介電載體，所述介電載體的至少一部分上設(shè)置有金屬層。在那些實(shí)施例的一些中，光致抗蝕劑設(shè)置在所述金屬層的至少一部分上。在此類實(shí)施例中，所述方法還可包括：對(duì)所述光致抗蝕劑進(jìn)行顯影以曝露所述金屬層的一部分，并蝕刻掉所述金屬層的曝露部分，從而提供至少一個(gè)導(dǎo)電軌跡。可從所述基底去除殘余光致抗蝕劑(即，顯影之后剩余的光致抗蝕劑)以曝露所述導(dǎo)電軌跡，然后可至少在曝露的導(dǎo)電軌跡上設(shè)置保護(hù)層。

在一些實(shí)施例中，所述載體包括聚合物膜，并且為柔性的。

在另一方面，本發(fā)明提供了一種設(shè)備，其包括如下部件：

a)光源，其用于產(chǎn)生光束；

b)掩模安裝座，適于接納掩模并能夠以第一速率、第二速率和第三速率沿著線性第一方向前進(jìn)，其中所述掩模包括圖像，并且其中所述第一圖像包括鄰接的第一、第二和第三圖像部分；

c)掩模臺(tái)，與所述掩模安裝座連通，并能夠按照所述第一速率、所述第二速率和所述第三速率中的每一個(gè)平移；

d)輸送組件，用于使基底沿著第二方向以第四速率前進(jìn)經(jīng)過(guò)曝光區(qū)，所述基底包括載體和感光材料層；以及

e)至少一個(gè)光學(xué)元件，用于引導(dǎo)所述光束入射在所述掩模上，使得所述光束隨后被引導(dǎo)到所述曝光區(qū)中的所述感光材料上。

在一些實(shí)施例中，所述設(shè)備還包括框架，部件a)至e)固定到所述框架。