[發(fā)明專(zhuān)利]對(duì)基底進(jìn)行感光成像的方法和設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080032175.0
• 申請(qǐng)日: 2010-05-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102460306A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丹尼爾·J·泰斯;利文特·伯耶克勒;杰弗里·H·托奇;大衛(wèi)·L·霍費(fèi)爾特
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 梁曉廣;關(guān)兆輝

1.一種方法，包括：

提供基底，所述基底包括支撐感光材料層的載體；

提供掩模，所述掩模包括圖像，所述圖像包括鄰接的第一、第二和第三圖像部分；并且順序地：

i)將光束引導(dǎo)到所述掩模上，使得在所述基底以第二速率沿著第二方向前進(jìn)經(jīng)過(guò)曝光區(qū)的同時(shí)，所述光束以第一速率沿著第一方向掃描所述第一圖像部分，并且隨后入射在所述曝光區(qū)處的所述感光材料層上；

ii)將所述光束引導(dǎo)到所述掩模上，使得在所述基底以第四速率沿著所述第二方向前進(jìn)經(jīng)過(guò)所述曝光區(qū)的同時(shí)，所述光束以第三速率入射在所述第二圖像部分上，隨后入射在所述曝光區(qū)中的所述感光材料層上；和

iii)將所述光束引導(dǎo)到所述掩模上，使得在所述基底以第六速率沿著所述第二方向前進(jìn)經(jīng)過(guò)所述曝光區(qū)的同時(shí)，所述光束以第五速率沿著所述第一方向掃描所述第三圖像部分，隨后入射在所述曝光區(qū)處的所述感光材料層上，其中所述第一速率和所述第五速率大于所述第三速率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一方向是線性的。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一速率等于所述第五速率，并且其中所述第二速率、所述第四速率和所述第六速率相等。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一速率與所述第二速率成比例。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一速率等于所述第二速率。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第三速率為零。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基底在所述曝光區(qū)中時(shí)保持與輥接觸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中當(dāng)在所述曝光區(qū)中時(shí)所述基底保持平的構(gòu)型。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光束穿過(guò)所述掩模。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光束的一部分被所述掩模反射，并被引導(dǎo)到所述感光材料上。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光束形成薄片狀，并被引導(dǎo)到所述感光材料上。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光束成光柵掃描。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基底包括介電載體，所述介電載體的至少一部分上設(shè)置有金屬層。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中光致抗蝕劑設(shè)置在所述金屬層的至少一部分上。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括對(duì)所述光致抗蝕劑進(jìn)行顯影以曝露所述金屬層的一部分，并蝕刻掉所述金屬層的曝露部分，從而提供至少一個(gè)導(dǎo)電軌跡。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，還包括從所述基底去除殘余光致抗蝕劑以曝露所述導(dǎo)電軌跡，然后至少在曝露的導(dǎo)電軌跡上設(shè)置保護(hù)層。

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述載體包括聚合物膜，并且為柔性的。

18.一種設(shè)備，包括以下部件：

a)光源，用于產(chǎn)生光束；

b)掩模安裝座，適于接納掩模并能夠以第一速率、第二速率和第三速率沿著線性第一方向前進(jìn)，其中所述掩模包括圖像，并且其中所述第一圖像包括鄰接的第一、第二和第三圖像部分；

c)掩模臺(tái)，與所述掩模安裝座連通，并能夠按照所述第一速率、所述第二速率和所述第三速率中的每一個(gè)平移；

d)輸送組件，用于使基底沿著第二方向以第四速率前進(jìn)經(jīng)過(guò)曝光區(qū)，所述基底包括載體和感光材料層；以及

e)至少一個(gè)光學(xué)元件，用于引導(dǎo)所述光束入射在所述掩模上，使得所述光束隨后被引導(dǎo)到所述曝光區(qū)中的所述感光材料上。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，還包括框架，部件a)至e)固定到所述框架。

20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，還包括：

a)輸送組件控制器，其與所述輸送組件連通，并能夠改變所述第四速率。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的設(shè)備，還包括框架，部件a)至f)固定到所述框架。