[發明專利]斷層圖像攝像設備和斷層圖像校正處理方法

有效

• 申請號: 201080031772.1
• 申請日: 2010-06-02
• 公開（公告）號: CN102469936A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發明（設計）人: 坂川幸雄;佐藤真;山本裕之
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: A61B3/10
• 分類號: A61B3/10;A61B3/12;G01N21/17
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種斷層圖像攝像設備，其特征在于，包括：

斷層圖像獲取部件，用于獲取多個斷層圖像；

分析部件，用于分析所述多個斷層圖像中的各個斷層圖像；

斷層圖像選擇部件，用于基于分析結果，選擇基準斷層圖像；以及

斷層圖像位置校正部件，用于通過使用所選擇的基準斷層圖像，對所述多個斷層圖像進行位置校正。

2.根據權利要求1所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述分析部件包括提取部件，所述提取部件用于從斷層圖像中提取空間特征，

其中，所述斷層圖像選擇部件選擇包括所述空間特征的斷層圖像。

3.根據權利要求2所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述提取部件所提取的特征量包括空間頻率、對比度變化量、邊緣強度、是否存在解剖學結構以及是否存在病變中的至少一個。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述斷層圖像獲取部件生成多個測量光束，并且通過使用各個測量光束來拍攝斷層圖像。

5.根據權利要求4所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述多個測量光束中的至少一個測量光束的照射條件不同于其它測量光束的照射條件。

6.根據權利要求5所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述照射條件包括測量光束的波長、聚焦位置以及相干門的位置中的至少一個。

7.根據權利要求4至6中任一項所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述多個測量光束在拍攝斷層圖像時一體地進行掃描，并且所述多個測量光束中的至少一個測量光束用作位置校正用的信號。

8.一種斷層圖像攝像設備，其特征在于，包括：

斷層圖像獲取部件，用于獲取多個斷層圖像；

分析部件，用于分析所述多個斷層圖像中的各個斷層圖像；以及

斷層圖像位置校正部件，用于基于進行了分析的斷層圖像，對所述多個斷層圖像進行位置校正，

所述斷層圖像獲取部件包括：

生成多個測量光束并通過使用各個測量光束拍攝斷層圖像的部件；

掃描部件，用于在測量對象上的不同測量位置處同時掃描所述多個測量光束中的至少一個測量光束和其它測量光束；以及

控制部件，用于控制所述掃描部件，

其中，所述控制部件控制所述掃描部件，以使得所述其它測量光束已進行掃描的測量位置變成所述至少一個測量光束的測量位置。

9.一種斷層圖像攝像設備，其特征在于，包括：

斷層圖像獲取部件，用于通過使用多個測量光束來獲取多個斷層圖像，其中，所述多個測量光束包括照射條件不同于其它測量光束的照射條件的至少一個測量光束；

斷層圖像選擇部件，用于從所述多個斷層圖像中選擇位置校正用的基準斷層圖像；以及

斷層圖像位置校正部件，用于通過使用所選擇的基準斷層圖像，對所述多個斷層圖像進行位置校正。

10.根據權利要求9所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，不同的所述照射條件是測量光束相對于被檢體的測量位置、測量靈敏度以及分辨率中的至少一個。

11.根據權利要求9或10所述的斷層圖像攝像設備，其特征在于，所述斷層圖像選擇部件分析斷層圖像，并且選擇所述基準斷層圖像。

12.一種斷層圖像攝像方法，其特征在于，包括以下步驟：

斷層圖像獲取步驟，用于使斷層圖像獲取部件獲取多個斷層圖像；

分析步驟，用于使分析部件分析所述多個斷層圖像中的各個斷層圖像；

斷層圖像選擇步驟，用于使斷層圖像選擇部件基于分析結果來選擇基準斷層圖像；以及

斷層圖像位置校正步驟，用于使斷層圖像位置校正部件通過使用所選擇的基準斷層圖像，對所述多個斷層圖像進行位置校正。