[發明專利]在沿輪胎胎圈的不同軌道位置通過燒蝕進行的均勻性校正

有效

• 申請號: 201080029422.1
• 申請日: 2010-06-11
• 公開（公告）號: CN102472689A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發明（設計）人: C·V·小海爾;V·S·尼克爾森;J-B·魯索;J·E·斯通
• 申請（專利權）人: 米其林研究和技術股份有限公司;米其林技術公司
• 主分類號: G01M17/02
• 分類號: G01M17/02
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;張碩

1.一種用于降低硫化輪胎中的一個或更多個均勻性參數的一個或更多個諧波的幅度的方法，所述方法包括以下步驟：

對一個或更多個均勻性參數進行識別并且對每一個期望進行校正的參數的選定數量的諧波進行識別；

其中，對至少一個燒蝕圖案進行計算，以校正各個經過識別的均勻性參數的選定數量的諧波；以及

根據為各個輪胎胎圈計算所得的所述至少一個燒蝕圖案，沿第一輪胎胎圈和第二輪胎胎圈的凸緣區域選擇性地去除輪胎材料。

2.根據權利要求1所述的方法，其中在輪胎胎圈的上凸緣區域內的至少一個軌道位置中實施所述選擇性地去除輪胎材料的步驟。

3.根據權利要求1所述的方法，其中在輪胎胎圈的下凸緣區域內的至少一個軌道位置中實施所述選擇性地去除輪胎材料的步驟。

4.根據權利要求1所述的方法，其中為各個第一輪胎胎圈和第二輪胎胎圈計算多個燒蝕圖案，并且所述多個燒蝕圖案中的每個圖案都設計成用于在胎圈座區域、下凸緣區域和上凸緣區域中的兩個或更多個區域中的沿輪胎胎圈的斷面限定的不同的軌道位置處進行燒蝕。

5.根據權利要求1所述的方法，其中根據以下公式對所述燒蝕圖案進行計算：

其中Ablation(θ)＝圍繞所述輪胎胎圈的角位置θ處的燒蝕深度，Amp_k＝均勻性參數k的加權校正幅值，h＝諧波數量，而是用于參數k的諧波h的相位。

6.根據權利要求5所述的方法，其中如果為校正而識別的所述至少一個均勻性參數包括側向力變化或者如果用于燒蝕的軌道位置包括所述下凸緣區域，則將所述諧波相位調節180度，以用于所述第一輪胎胎圈和所述第二輪胎胎圈中的一個或兩個上的所述燒蝕圖案的可應用部分。

7.根據權利要求1所述的方法，其中為校正進行識別的所述至少一個均勻性參數包括低速徑向力變化和高速徑向力變化、側向力變化、切向力變化、徑向尺寸偏差、側向尺寸偏差、質量變化、錐度以及簾布層轉向效應中的一個或更多個。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述選定數量的諧波包括多個諧波。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述選擇性地去除輪胎材料的步驟包括采用固定的功率水平的燒蝕，同時使所述硫化輪胎以變化的轉速選擇性地旋轉。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述選擇性地去除輪胎材料的步驟包括采用變化的功率水平的燒蝕，同時使所述硫化輪胎以固定轉速旋轉。

11.根據權利要求1所述的方法，其中所述對至少一個燒蝕圖案進行計算的步驟更加具體地包括確定比例因子以對用于燒蝕的軌道位置和各個均勻性參數的期望的校正水平進行加權。

12.根據權利要求1所述的方法，其中所述選擇性地去除輪胎材料的步驟包括沿各個輪胎胎圈的選定的角部分去除材料，其中所述選定的角部分小于360度的整個輪胎擴展。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述對至少一個燒蝕圖案進行計算的步驟包括對所述燒蝕圖案進行調節以考慮實際燒蝕實施中的非線性。

14.一種用于降低硫化輪胎中的至少一個均勻性參數的一個或更多個諧波的幅度的均勻性校正系統，所述系統包括：

輪胎固定裝置，輪胎牢固地安裝在所述輪胎固定裝置上以用于選擇性地旋轉；

燒蝕裝置，所述燒蝕裝置相對于所述輪胎固定裝置進行定向，以用于提供安裝在所述輪胎固定裝置上的輪胎的燒蝕；以及

計算機控制系統，所述計算機控制系統聯接至所述燒蝕裝置和所述輪胎固定裝置，以用于選擇性地控制輪胎轉速和燒蝕功率，使得根據沿安裝在所述輪胎固定裝置上的輪胎的至少一個胎圈的多個燒蝕圖案來選擇性地去除輪胎材料，并且其中所述多個燒蝕圖案中的每一個圖案都設計成用于在沿至少一個胎圈的斷面處限定的以及在所述斷面的胎圈座區域、下凸緣區域和上凸緣區域中的一個或更多個中限定的不同的軌道位置處進行燒蝕。