[發(fā)明專利]用于同時檢驗具有不同間距的多個陣列區(qū)域的方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080028830.5 | 申請日: | 2010-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN102803939A | 公開(公告)日: | 2012-11-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | H·陳;J·Z·林 | 申請(專利權(quán))人: | 克拉-坦科股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G03F1/84 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 張欣 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 同時 檢驗 具有 不同 間距 陣列 區(qū)域 方法 裝置 | ||
1.用于在所制造的襯底上的多個陣列區(qū)域中檢測缺陷的檢驗裝置,所述裝置包括:
成像裝置,被設(shè)置為照明所述襯底的區(qū)域并檢測來自所述區(qū)域的圖像數(shù)據(jù),其中所述區(qū)域包括多個陣列區(qū)域的集合;以及
系統(tǒng)控制器,包括處理器、存儲器和位于所述存儲器中的計算機可讀代碼,所述計算機可讀代碼被設(shè)置為:
選擇最優(yōu)像素尺寸,以使所述多個陣列區(qū)域中的每一個陣列區(qū)域可具有在尺寸上是整數(shù)個像素的被編組單元,且
將所述成像裝置的像素尺寸調(diào)整為所選擇的最優(yōu)像素尺寸。
2.如權(quán)利要求1所述的檢驗裝置,其特征在于,還包括所述成像裝置的倍數(shù)控制電子元件,其中所述倍數(shù)控制電子元件被用于調(diào)整所述像素尺寸。
3.如權(quán)利要求1所述的檢驗裝置,其特征在于,所述成像裝置包括可移動的襯底夾持器來將所述襯底的區(qū)域移動到所述成像裝置的照明之下。
4.如權(quán)利要求1所述的檢驗裝置,其特征在于,所述成像裝置包括電子束檢驗工具。
5.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被設(shè)置為:當(dāng)所述單元尺寸被用整數(shù)表達(dá)時,通過找到多個陣列區(qū)域的單元尺寸的最大公約數(shù),來確定像素尺寸可用范圍內(nèi)的最優(yōu)像素尺寸。
6.如權(quán)利要求5所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被進(jìn)一步設(shè)置為基于每一個最優(yōu)像素尺寸來確定每一個陣列區(qū)域中需要被編組的單元的數(shù)量。
7.如權(quán)利要求6所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被進(jìn)一步設(shè)置為基于預(yù)設(shè)準(zhǔn)則而確定所述最優(yōu)像素尺寸中的哪一個,如果有的話,是可被接受的。
8.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被進(jìn)一步設(shè)置為選擇可被接受的最優(yōu)像素尺寸作為被選擇的最優(yōu)像素尺寸。
9.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被進(jìn)一步設(shè)置為:如果存在多個可被接受的最優(yōu)像素尺寸的話,那么通過應(yīng)用最終準(zhǔn)則來選擇所述可被接受的最優(yōu)像素尺寸中的一個。
10.如權(quán)利要求9所述的成像裝置,其特征在于,應(yīng)用所述最終準(zhǔn)則包括確定,當(dāng)來自所有所述陣列區(qū)域的被編組單元中多個像素被加在一起的時候,哪一個可被接受的像素尺寸提供最少數(shù)量的總像素。
11.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被進(jìn)一步設(shè)置為,如果基于所述預(yù)設(shè)準(zhǔn)則,沒有一個最優(yōu)像素尺寸被確定為可被接受的,那么將多個陣列區(qū)域中的一個標(biāo)記用于數(shù)字內(nèi)插。
12.如權(quán)利要求11所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被進(jìn)一步設(shè)置為,通過將被標(biāo)記的陣列區(qū)域移除來修改所述多個陣列區(qū)域的集合,并基于修改后的多個陣列區(qū)域的集合來選擇最優(yōu)的像素尺寸。
13.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,所述計算機可讀代碼被設(shè)置為在兩維的每一維中選擇最優(yōu)的像素尺寸,并在所述兩維中調(diào)整所述成像裝置的像素尺寸。
14.使用成像裝置同時自動地檢驗多個陣列區(qū)域的方法,所述方法包括:
照明襯底的區(qū)域;
從所述區(qū)域中檢測圖像數(shù)據(jù),其中所述區(qū)域包括多個陣列區(qū)域的集合;
選擇最優(yōu)像素尺寸,這樣所述多個陣列區(qū)域中的每一個陣列區(qū)域具有在尺寸上是整數(shù)個像素的被編組單元;以及
將所述成像裝置的像素尺寸調(diào)整為所選擇的最優(yōu)像素尺寸。
15.如權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于,還包括:
改變所述成像裝置的倍數(shù)來調(diào)整所述像素尺寸。
16.如權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于,還包括:
通過可移動的襯底夾持器在所述成像裝置的照明下移動襯底的所述區(qū)域。
17.如權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于,所述成像裝置包括:
電子束檢測工具,且所述區(qū)域由電子束照明。
18.如權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于,還包括:
當(dāng)單元尺寸用整數(shù)表達(dá)的時候,通過尋找所述多個陣列區(qū)域的單元尺寸的最大公約數(shù)來確定可用的像素尺寸范圍內(nèi)的最優(yōu)像素尺寸。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于克拉-坦科股份有限公司,未經(jīng)克拉-坦科股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080028830.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種仙客來營養(yǎng)肥的配制方法
- 下一篇:喇叭形開啟罩
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





