[發明專利]光電子器件有效
| 申請號: | 201080021372.2 | 申請日: | 2010-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN102428581A | 公開(公告)日: | 2012-04-25 |
| 發明(設計)人: | 盧茨·赫佩爾 | 申請(專利權)人: | 歐司朗光電半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/48 | 分類號: | H01L33/48;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李德山;王萍 |
| 地址: | 德國雷*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光電子 器件 | ||
本申請涉及一種光電子器件,其具有半導體本體和借助焊接連接部與半導體本體連接的支承體襯底。
本專利申請要求德國專利申請10?2009?032?486.0的優先權,其公開中容通過引用結合于此。
從出版物WO2008/131735中已知一種薄膜發光二極管芯片,其中將用于半導體本體的外延層序列的生長襯底從半導體本體剝離,并且半導體本體借助焊接連接部與支承體襯底連接,該支承體襯底不同于外延層序列的生長襯底。在該薄膜發光二極管芯片中,兩個電接觸部均設置在發光二極管芯片的背側。
本發明的目的存在于,提供一種改進的光電子器件,其可表面安裝并且例如可以在其下側與電路板的印制導線連接,并且同時其特征在于相對于短路和/或靜電放電(ESD-electrostatic?discharge)的較小的敏感度。
該目的通過根據獨立權利要求1所述的光電子器件來實現。本發明有利的實施形式和改進方案是從屬權利要求的主題。
根據一個實施形式,光電子器件具有半導體本體,其具有外延層序列,該外延層序列帶有適于產生輻射的有源層。此外,光電子器件具有支承體襯底,其借助焊接連接部與半導體本體連接。
支承體襯底有利地具有第一穿通部和第二穿通部。第一導電連接層穿過第一穿通部從支承體襯底的朝向半導體本體的第一主面引向支承體襯底的背離半導體本體的第二主面。此外,第二導電連接層穿過第二穿通部從支承體襯底的朝向半導體本體的第一主面引向支承體襯底的背離半導體本體的第二主面。
通過導電連接層從支承體襯底的第一主面引向支承體襯底的對置的第二主面的方式,光電子器件可以有利地在支承體襯底的第二主面上設有電端子,其中所述第一主面通過焊接連接部與半導體本體連接。特別地,在支承體襯底的第二主面上的光電子器件可以與電路板的印制導線連接,其方式為例如第一導電連接層借助焊接連接部與電路板的第一印制導線連接,并且第二導電連接層借助第二焊接連接部與電路板的第二印制導線連接。光電子器件于是有利地為可表面安裝的。
光電子器件的支承體襯底有利地由尤其是硅的半導體材料構成。由半導體材料構成的支承體襯底相對于例如由陶瓷構成的支承體襯底具有下述優點,即可以相對簡單地并且低成本地用標準化的半導體工藝來加工。
根據有利的擴展方案,支承體襯底具有側壁,其至少在第一部分區域中傾斜于支承體襯底的主面延伸,其中在第一部分區域中側壁設有電絕緣層。
通過支承體襯底的側壁至少部分地設有電絕緣層的方式,降低了在第一導電連接層和第二導電連接層之間的短路的危險。然后,短路的危險尤其在如下情況下存在:第一導電連接層和第二到導電接層借助焊接連接部例如與電路板的印制導線連接。在這種情況下可能的是,焊劑在焊接過程中上升至支承體襯底的側壁,使得在由半導體材料構成的支承體襯底的情況下,由于半導體材料的至少微弱的導電性會出現短路。該危險通過施加到側壁的第一部分區域的電絕緣層來降低。
側壁的電絕緣層施加到其上的第一部分區域優選鄰接支承體襯底的第二主面。支承體襯底的與半導體本體對置的第二主面尤其可以設置用于將光電子器件安裝到電路板上,使得在側壁的鄰接第二主面的區域中由于上升至側壁的焊劑提高了短路的危險。因此有利的是:至少支承體襯底的側壁的鄰接第二主面的部分區域設有電絕緣層。
其中側壁傾斜于支承體的主面延伸并且設有電絕緣層的第一部分區域的高度優選為支承體襯底高度的10%和50%之間,其中包括邊界值。在此,傾斜延伸的側壁的高度理解為側壁在垂直于支承體襯底的主面的方向上的投影。側壁的第一部分區域有利地具有在20μm和100μm之間的高度。例如,第一部分區域可以具有大約30μm的高度。
光電子器件的支承體襯底尤其可以是硅襯底。硅襯底具有下述優點,其是低成本的而可以相對簡單地加工,例如在制造用于兩個電連接層的穿通部時。
電絕緣層優選包含氧化硅或氮化硅,該電絕緣層尤其施加到側壁的第一部分區域上。氧化硅層可以有利地通過熱氧化在硅襯底上產生。此外,氧化硅層或氮化硅層還可以通過CVD(化學氣相沉積)方法或通過旋涂技術施加到半導體襯底上。
在一個優選的實施形式中,在第一部分區域中支承體襯底的側壁傾斜于支承體襯底的主面延伸,使得支承體襯底的橫截面朝著第二主面逐漸變細。通過在第一部分區域中支承體襯底的側壁傾斜地延伸的方式,使得在第一部分區域中側壁的涂層變得容易。傾斜于第二主面延伸的側壁尤其與如下情況相比可以更容易地涂層:側壁分別垂直于第二主面延伸并且因此構建彼此背離的表面。
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