[發明專利]用于處理平面處理物的方法和設備以及用于去除或擋住處理液的裝置

有效

• 申請號: 201080021230.6
• 申請日: 2010-05-12
• 公開（公告）號: CN102422727A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 亨利·孔策;費迪南德·維納
• 申請（專利權）人: 埃托特克德國有限公司
• 主分類號: H05K3/00
• 分類號: H05K3/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王萍;陳煒

本發明涉及用于處理平面處理物的方法和設備以及用于將處理液從平面處理物去除或擋住的裝置。尤其是，本發明涉及這樣的方法、設備和裝置，其允許處理具有敏感表面的處理物。本發明也涉及這樣的方法、設備和裝置，其中在將液體從處理物去除時可以在很大程度上避免待處理的處理物有用區與堅固元件之間的接觸。

在加工平面處理物譬如電路板工業中的電路板時，處理物的處理通常在濕化學工藝線中進行。為了去除處理液譬如化學試劑或水，可以使用所謂的擠壓輥。這樣的輥例如可以被使用以便在處理站中進行浸漬處理的處理液蓄積，如其在DE?43?37?988A1中描述的那樣。

圖9是處理站200的示意圖，其中處理液的液體水平高于處理物203的輸送平面，使得處理物203可以被浸漬地輸送。處理物203在水平的輸送方向204上輸送通過處理站。為了輸送處理物設置有輥對211-216，其與處理物203的向上指向的和向下指向的表面靠置，以便輸送處理物。為了避免處理液的流出，設置有內部容器201，在該內部容器中處理液以(未示出的)高水平蓄積。內部容器201被外部容器202包圍，使得外部容器202收集從內部容器201中溢流的處理液。從在外部容器202中收集的在外部容器中具有水平209的處理液208中，借助泵210將處理液泵送回內部容器201。處理液可以通過流入噴嘴206、207等等被回送到內部容器201中。

為了在內部容器201中蓄積處理液，在內部容器201的流入區域和流出區域中使用所謂的擠壓輥213、215的對。擠壓輥213、215的對例如可以具有圓柱形外殼面。在該對213的擠壓輥213a、213b和輥對215的擠壓輥靠置在處理物203上時，處理液能夠通過其從內部容器201流出的自由橫截面受限。通過相應調節泵210的運送率可以調節在內部容器201中的處理液的所期望的水平。附加的輥對如輥對211、212、214和216在處理站的流入區域和流出區域中同樣可以用作擠壓輥。

如果處理物203具有一個或多個敏感表面，則在擠壓輥對213、215與處理物203之間的直接接觸會導致處理物203的表面的損傷，其中在傳統擠壓輥的情況下在處理物203的整個寬度上即在橫向于輸送方向204的整個伸展上存在接觸。對處理物203的表面的損傷例如會通過面擠壓或者粘附到擠壓輥213、215的表面上的顆粒和表面不平坦性引起。

本發明所基于的任務是說明一種用于處理平面處理物的方法和設備以及一種用于去除或擋住用于處理平面處理物的設備的處理液的裝置，其中可以降低損傷處理物的敏感表面的危險。本發明基于的任務也在于說明一種用于制造電路板的方法，其中可以降低對電路板的敏感表面區域的損傷的危險。

根據本發明，該任務通過如在獨立權利要求中所說明的用于處理平面處理物的方法和設備以及用于去除或擋住處理液的裝置。從屬權利要求限定了本發明的優選的和有利的實施形式。

用于處理在用于對處理物以濕化學方式處理的設備中沿著輸送路徑被輸送的平面處理物的方法設計為：設置有用于使處理液止回的止回面，處理物在設備中暴露于該處理液。止回面在輸送路徑上定位為使得在處理物引導經過止回面時在止回面與處理物的表面之間留有間隙。

稱作用于使處理液止回的止回面為如下面：其由于其構造和布置而可以限制液體在至少一個方向上尤其是在處理物的輸送方向上的流動。止回面不必完全阻止液體流動，而是尤其可以通過構建的間隙允許處理液的流經。

由于止回面定位為使得在處理物被引導經過止回面時在止回面與處理物的表面之間留有間隙，所以處理物的其上有設置有間隙的區段并不與止回面觸碰。止回面尤其可以構建為使得該間隙沿著處理物的有用區延伸使得止回面并不觸碰處理物的有用區。

止回面可以構建和設置為使得止回面并不觸碰處理物的在處理物的對置邊緣區域之間連續延伸的有用區。止回面可以構建和設置為使得止回面與處理物的整個有用區間隔。止回面可以構建和設置為使得在處理物被引導經過止回面時，間隙在橫向于處理物的輸送方向的方向上連續地在處理物的整個有用區之上延伸。

該間隙可以具有最小間隙高度。稱作最小間隙高度的是在止回面與引導經過止回面的處理物之間的最小距離。至少在止回面的一側上可以將處理液蓄積直至高于間隙的最小間隙高度的水平。處理物于是可以在止回面的至少一側上浸漬地輸送到處理液中。在例如處理物在處理站的流出區域被引導經過止回面時止回面可以降低處理物上的液體水平或將處理液從處理物去除。